位置测量方法、位置测量设备、光刻设备以及装置制造方法、光学元件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380026279.4

申请日：

2013-02-07

公开(公告)号：

CN104321703B

公开(公告)日：

2015-01-28

发明(设计)人：

J·克洛泽 A·登博夫 S·马蒂杰森

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G02B1900

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

王茂华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-02-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101599909071 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2013800262794 申请日:20130207
2017-09-22	授权	授权
2015-01-28	公开	公开

共 50 条

[1]

位置测量方法、位置测量系统以及光刻设备 [P].

吴萍 ;

付强 .

中国专利 :CN117537704A ,2024-02-09

[2]

用于测量微结构的非对称性的方法和设备、位置测量方法、位置测量设备、光刻设备和器件制造方法 [P].

S·G·J·玛斯吉森 .

中国专利 :CN105143986B ,2015-12-09

[3]

位置测量装置、测量方法及光刻设备 [P].

吴萍 ;

王周青 ;

司纪宗 .

中国专利 :CN120704067A ,2025-09-26

[4]

位置测量设备和位置测量方法 [P].

阿木智彦 .

中国专利 :CN101943969B ,2011-01-12

[5]

光刻设备和位置测量方法 [P].

E·J·M·尤斯森 ;

T·A·R·范埃佩 ;

W·O·普里 .

中国专利 :CN1758140A ,2006-04-12

[6]

测量方法、测量设备、光刻设备及器件制造方法 [P].

A·J·登博夫 ;

M·H·M·比姆斯 ;

T·P·M·卡迪 ;

R·W·L·拉法瑞 .

中国专利 :CN102645847A ,2012-08-22

[7]

磁栅尺设备、位置测量设备和位置测量方法 [P].

丁兆洋 ;

费利克斯.格里姆 .

中国专利 :CN111912326B ,2025-04-11

[8]

磁栅尺设备、位置测量设备和位置测量方法 [P].

丁兆洋 ;

费利克斯.格里姆 .

中国专利 :CN111912326A ,2020-11-10

[9]

光刻设备中的光学元件的位置测量 [P].

E.洛普斯特拉 ;

E.A.F.范德帕施 ;

S.布雷迪斯特尔 ;

S.科西恩 .

中国专利 :CN109154783A ,2019-01-04

[10]

光刻设备中的光学元件的位置测量 [P].

E.洛普斯特拉 ;

E.A.F.范德帕施 ;

S.布雷迪斯特尔 ;

S.科西恩 .

中国专利 :CN114236970A ,2022-03-25

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