位置测量方法、位置测量设备、光刻设备以及装置制造方法、光学元件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380026279.4

申请日：

2013-02-07

公开(公告)号：

CN104321703B

公开(公告)日：

2015-01-28

发明(设计)人：

J·克洛泽 A·登博夫 S·马蒂杰森

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G02B1900

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

王茂华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-02-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101599909071 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2013800262794 申请日:20130207
2017-09-22	授权	授权
2015-01-28	公开	公开

共 50 条

[41]

位置测量设备 [P].

J·布拉希 ;

W·霍尔扎普费尔 ;

U·本纳 ;

R·伯恩哈德 ;

E·迈耶 ;

M·塞克特 ;

G·埃加特纳 .

中国专利 :CN102037332A ,2011-04-27

[42]

位置测量装置及测量方法 [P].

高桑真歩 .

中国专利 :CN114188236A ,2022-03-15

[43]

位置测量装置及测量方法 [P].

黄国纮 ;

张嘉桦 ;

邱垂欣 ;

张昭琳 ;

张灿辉 .

中国专利 :CN101561248A ,2009-10-21

[44]

位置测量系统和光刻设备 [P].

R·A·琼斯 ;

E·A·J·M·本特 .

:CN120112768A ,2025-06-06

[45]

位置测量系统和光刻设备 [P].

汉斯·布特勒 ;

恩格尔伯塔斯·安东尼斯·弗朗西斯克斯·范德帕什 .

中国专利 :CN101424513B ,2009-05-06

[46]

位置测量方法、位置控制方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

杉原太郎 .

中国专利 :CN103149802A ,2013-06-12

[47]

一种应用可变焦点技术的增材制造位置测量设备、位置测量方法及增材制造方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN112192838B ,2021-01-08

[48]

测量方法、测量装置和光学元件的制造方法 [P].

杉本智洋 .

中国专利 :CN106226032A ,2016-12-14

[49]

位置测量模块、位置测量装置、平台装置、曝光装置以及元件制造方法 [P].

诸江顺一 .

中国专利 :CN101627341A ,2010-01-13

[50]

位置测量设备以及标尺和用于制造标尺的方法 [P].

A.弗兰克 ;

M.O.蒂曼 ;

M.霍伊曼 .

中国专利 :CN102749023A ,2012-10-24

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