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位置测量方法、位置测量设备、光刻设备以及装置制造方法、光学元件
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201380026279.4
申请日：
2013-02-07
公开(公告)号：
CN104321703B
公开(公告)日：
2015-01-28
发明(设计)人：
J·克洛泽
A·登博夫
S·马蒂杰森
申请人：
申请人地址：
荷兰维德霍温
IPC主分类号：
G03F900
IPC分类号：
G02B1900
代理机构：
北京市金杜律师事务所 11256
代理人：
王茂华
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2015-02-25 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101599909071 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2013800262794 申请日:20130207 |
| 2017-09-22 | 授权 | 授权 |
| 2015-01-28 | 公开 | 公开 |