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位置测量方法、位置控制方法、测量方法、装载方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200580038725.9
申请日：
2005-11-18
公开(公告)号：
CN101057316A
公开(公告)日：
2007-10-17
发明(设计)人：
安田雅彦 杉原太郎
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L21027
IPC分类号：
G01B1100 G03F720 H01L2168
代理机构：
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人：
寿宁
法律状态：
专利权的终止
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2020-10-30 专利权的终止 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20051118 授权公告日:20130306 终止日期:20191118
2013-03-06 授权 授权
2007-12-12 实质审查的生效 实质审查的生效
2007-10-17 公开 公开
共 50 条
[1]
位置测量方法、位置控制方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P]. 
安田雅彦 ;
杉原太郎 .
中国专利 :CN103149802A ,2013-06-12
[2]
测量方法、装载方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P]. 
安田雅彦 ;
杉原太郎 .
中国专利 :CN103186057A ,2013-07-03
[3]
位置控制方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P]. 
安田雅彦 ;
杉原太郎 .
中国专利 :CN104360582B ,2015-02-18
[4]
位置测量方法、曝光方法、曝光装置、及器件制造方法 [P]. 
小林满 .
中国专利 :CN1656354A ,2005-08-17
[5]
测量方法、测量装置、曝光方法及曝光装置 [P]. 
小林满 ;
安田雅彦 .
中国专利 :CN100463108C ,2007-05-09
[6]
测量装置及测量方法、曝光装置及曝光方法、以及器件制造方法 [P]. 
上田哲宽 .
中国专利 :CN107407894A ,2017-11-28
[7]
测量装置、曝光装置、光刻系统、测量方法及曝光方法 [P]. 
柴崎祐一 .
中国专利 :CN111176084A ,2020-05-19
[8]
聚焦、位置测量、曝光及元件制造的方法及曝光装置 [P]. 
小林满 .
中国专利 :CN1419267A ,2003-05-21
[9]
位置测量系统及位置测量方法、移动体装置、移动体驱动方法、曝光装置及曝光方法、图案形成装置、以及组件制造方法 [P]. 
牧野内进 .
中国专利 :CN101796614A ,2010-08-04
[10]
测量装置、光刻系统、曝光装置、测量方法以及曝光方法 [P]. 
柴崎祐一 .
中国专利 :CN111176083A ,2020-05-19
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