位置控制方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410601494.9

申请日：

2005-11-18

公开(公告)号：

CN104360582B

公开(公告)日：

2015-02-18

发明(设计)人：

安田雅彦杉原太郎

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

陈伟

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-03-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101602353759 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014106014949 申请日:20051118
2020-10-30	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20051118 授权公告日:20170616 终止日期:20191118
2015-02-18	公开	公开
2017-06-16	授权	授权

共 50 条

[1]

位置测量方法、位置控制方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

杉原太郎 .

中国专利 :CN103149802A ,2013-06-12

[2]

位置测量方法、位置控制方法、测量方法、装载方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

杉原太郎 .

中国专利 :CN101057316A ,2007-10-17

[3]

曝光装置、及元件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

杉原太郎 .

中国专利 :CN103149803B ,2013-06-12

[4]

测量方法、装载方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

杉原太郎 .

中国专利 :CN103186057A ,2013-07-03

[5]

曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 [P].

柴崎佑一 .

中国专利 :CN102636966B ,2012-08-15

[6]

聚焦、位置测量、曝光及元件制造的方法及曝光装置 [P].

小林满 .

中国专利 :CN1419267A ,2003-05-21

[7]

曝光装置、曝光方法、元件制造方法及维护方法 [P].

白石健一 .

中国专利 :CN103439863B ,2013-12-11

[8]

曝光方法、曝光装置及元件制造方法 [P].

奈良圭 .

中国专利 :CN1983037B ,2007-06-20

[9]

曝光装置、曝光方法及元件制造方法 [P].

长坂博之 ;

奥山猛 .

中国专利 :CN101639631A ,2010-02-03

[10]

曝光方法、曝光装置及元件制造方法 [P].

奈良圭 .

中国专利 :CN100524024C ,2003-12-03

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