曝光方法、曝光装置及元件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03136730.5

申请日：

2003-05-20

公开(公告)号：

CN100524024C

公开(公告)日：

2003-12-03

发明(设计)人：

奈良圭

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027 G02F113

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

王学强

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-08-05	授权	授权
2003-12-03	公开	公开
2005-07-27	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

曝光方法、曝光装置及元件制造方法 [P].

奈良圭 .

中国专利 :CN1983037B ,2007-06-20

[2]

曝光装置、曝光方法、及元件制造方法 [P].

荒井大 .

中国专利 :CN105652603A ,2016-06-08

[3]

曝光方法、曝光装置及元件制造方法 [P].

柴崎佑一 .

中国专利 :CN102566317B ,2012-07-11

[4]

曝光装置、曝光方法、及元件制造方法 [P].

荒井大 .

中国专利 :CN105301918A ,2016-02-03

[5]

曝光装置、曝光方法、及元件制造方法 [P].

荒井大 .

中国专利 :CN105487351A ,2016-04-13

[6]

曝光装置、曝光方法及元件制造方法 [P].

长坂博之 ;

奥山猛 .

中国专利 :CN101639631A ,2010-02-03

[7]

曝光装置、曝光方法及元件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN101171668A ,2008-04-30

[8]

曝光装置、曝光方法及元件制造方法 [P].

长坂博之 ;

奥山猛 .

中国专利 :CN1981365A ,2007-06-13

[9]

曝光装置、曝光方法及元件制造方法 [P].

西井康文 .

中国专利 :CN1954408B ,2007-04-25

[10]

曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN105182695B ,2015-12-23

← 1 2 3 4 5 →