曝光装置、曝光方法及元件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680015882.2

申请日：

2006-03-31

公开(公告)号：

CN101171668A

公开(公告)日：

2008-04-30

发明(设计)人：

长坂博之

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

任默闻

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-03-12	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20060331 授权公告日:20091021 终止日期:20200331
2008-04-30	公开	公开
2009-10-21	授权	授权
2008-06-25	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

曝光方法、曝光装置及元件制造方法 [P].

奈良圭 .

中国专利 :CN1983037B ,2007-06-20

[2]

曝光装置、曝光方法及元件制造方法 [P].

长坂博之 ;

奥山猛 .

中国专利 :CN101639631A ,2010-02-03

[3]

曝光方法、曝光装置及元件制造方法 [P].

奈良圭 .

中国专利 :CN100524024C ,2003-12-03

[4]

曝光装置、曝光方法、及元件制造方法 [P].

荒井大 .

中国专利 :CN105652603A ,2016-06-08

[5]

曝光装置、曝光方法及元件制造方法 [P].

长坂博之 ;

奥山猛 .

中国专利 :CN1981365A ,2007-06-13

[6]

曝光方法、曝光装置及元件制造方法 [P].

柴崎佑一 .

中国专利 :CN102566317B ,2012-07-11

[7]

曝光装置、曝光方法、及元件制造方法 [P].

荒井大 .

中国专利 :CN105301918A ,2016-02-03

[8]

曝光装置、曝光方法、及元件制造方法 [P].

荒井大 .

中国专利 :CN105487351A ,2016-04-13

[9]

曝光装置、曝光方法及元件制造方法 [P].

西井康文 .

中国专利 :CN1954408B ,2007-04-25

[10]

曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN105182695B ,2015-12-23

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