曝光装置、及元件制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310020306.9
申请日
2005-11-18
公开(公告)号
CN103149803B
公开(公告)日
2013-06-12
发明(设计)人
安田雅彦 杉原太郎
申请人
申请人地址
日本东京都千代田区丸之内3丁目2番3号
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
G03F900
代理机构
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
陈伟
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
位置控制方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P]. 
安田雅彦 ;
杉原太郎 .
中国专利 :CN104360582B ,2015-02-18
[2]
测量方法、装载方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P]. 
安田雅彦 ;
杉原太郎 .
中国专利 :CN103186057A ,2013-07-03
[3]
位置测量方法、位置控制方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P]. 
安田雅彦 ;
杉原太郎 .
中国专利 :CN103149802A ,2013-06-12
[4]
曝光装置及元件制造方法 [P]. 
白石健一 .
中国专利 :CN108490741A ,2018-09-04
[5]
曝光装置及元件制造方法 [P]. 
白石健一 .
中国专利 :CN101819386A ,2010-09-01
[6]
曝光装置及元件制造方法 [P]. 
白石健一 .
中国专利 :CN101095213A ,2007-12-26
[7]
曝光装置及元件制造方法 [P]. 
白石健一 .
中国专利 :CN105467775A ,2016-04-06
[8]
位置测量方法、位置控制方法、测量方法、装载方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P]. 
安田雅彦 ;
杉原太郎 .
中国专利 :CN101057316A ,2007-10-17
[9]
曝光装置及元件制造方法 [P]. 
白石健一 .
中国专利 :CN101776850B ,2010-07-14
[10]
曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 [P]. 
柴崎佑一 .
中国专利 :CN102636966B ,2012-08-15