测量方法、装载方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310020243.7

申请日：

2005-11-18

公开(公告)号：

CN103186057A

公开(公告)日：

2013-07-03

发明(设计)人：

安田雅彦杉原太郎

申请人：

申请人地址：

日本东京都千代田区丸之内3丁目2番3号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F900

代理机构：

北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019

代理人：

寿宁

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-12-23	授权	授权
2020-10-30	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20051118 授权公告日:20151223 终止日期:20191118
2013-07-03	公开	公开
2013-07-31	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101499121857 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2013100202437 申请日:20051118

共 50 条

[1]

位置测量方法、位置控制方法、测量方法、装载方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

杉原太郎 .

中国专利 :CN101057316A ,2007-10-17

[2]

位置测量方法、位置控制方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

杉原太郎 .

中国专利 :CN103149802A ,2013-06-12

[3]

位置控制方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

杉原太郎 .

中国专利 :CN104360582B ,2015-02-18

[4]

曝光装置、及元件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

杉原太郎 .

中国专利 :CN103149803B ,2013-06-12

[5]

测量方法、测量装置、曝光方法及曝光装置 [P].

小林满 ;

安田雅彦 .

中国专利 :CN100463108C ,2007-05-09

[6]

测量装置及测量方法、曝光装置及曝光方法、以及器件制造方法 [P].

上田哲宽 .

中国专利 :CN107407894A ,2017-11-28

[7]

测量装置、曝光装置、光刻系统、测量方法及曝光方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN111176084A ,2020-05-19

[8]

位置测量方法、曝光方法、曝光装置、及器件制造方法 [P].

小林满 .

中国专利 :CN1656354A ,2005-08-17

[9]

曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 [P].

柴崎佑一 .

中国专利 :CN102636966B ,2012-08-15

[10]

曝光装置、曝光方法、元件制造方法及维护方法 [P].

白石健一 .

中国专利 :CN103439863B ,2013-12-11

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