半导体单晶制造装置

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专利类型
发明
申请号
CN200580049783.1
申请日
2005-12-06
公开(公告)号
CN101175874B
公开(公告)日
2008-05-07
发明(设计)人
杉村涉 小野敏昭 宝来正隆
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
C30B2906
IPC分类号
C30B1520
代理机构
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
孙秀武;李平英
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体单晶制造装置 [P]. 
杉村涉 ;
宝来正隆 ;
小野敏昭 .
中国专利 :CN101175873A ,2008-05-07
[2]
制造半导体单晶装置 [P]. 
神尾宽 ;
中冈一秀 ;
荒木健治 ;
村上胜彦 ;
风间彰 ;
堀江重豪 .
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[3]
半导体制造装置和半导体制造方法 [P]. 
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金子健吾 .
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[4]
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宫永伦正 ;
樱田隆 ;
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[5]
半导体制造装置 [P]. 
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竹内有一 .
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[6]
半导体制造装置 [P]. 
藤林裕明 ;
竹内有一 .
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
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