氧化钇烧结体和等离子体处理装置用构件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880128869.7

申请日：

2008-10-08

公开(公告)号：

CN102015577B

公开(公告)日：

2011-04-13

发明(设计)人：

冈本研荒堀忠久

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C04B3550

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-06-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101074690324 IPC(主分类):C04B 35/50 专利申请号:2008801288697 申请日:20081008
2011-04-13	公开	公开
2013-12-18	授权	授权

共 50 条

[1]

陶瓷烧结体和等离子体处理装置用构件 [P].

田中万平 .

中国专利 :CN112334433A ,2021-02-05

[2]

等离子体处理装置用构件及等离子体处理装置 [P].

石川和洋 ;

日野高志 ;

斋藤秀一 .

中国专利 :CN113728124A ,2021-11-30

[3]

等离子体处理装置用构件和具备它的等离子体处理装置 [P].

石川和洋 ;

日野高志 ;

斋藤秀一 .

中国专利 :CN111699274A ,2020-09-22

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

竹内贵广 ;

小林宪 .

中国专利 :CN114188208A ,2022-03-15

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

藤原直树 ;

大秦充敬 ;

竹内贵广 .

中国专利 :CN114121589A ,2022-03-01

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

樋口龙太 ;

齐藤武尚 ;

中岛俊希 ;

北邨友志 .

日本专利 :CN120457773A ,2025-08-08

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

竹内贵广 ;

小林宪 .

中国专利 :CN114188209A ,2022-03-15

[8]

等离子体处理装置用构件 [P].

松藤浩正 .

中国专利 :CN110944962B ,2020-03-31

[9]

等离子体处理装置所使用的烧结体以及构件 [P].

村田征隆 ;

渡边敬祐 .

中国专利 :CN101521144A ,2009-09-02

[10]

等离子体处理装置用构件和具备它的等离子体处理装置 [P].

石川和洋 ;

日野高志 ;

斋藤秀一 .

中国专利 :CN113260732A ,2021-08-13

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