化合物半导体晶片、光电转换元件、以及III-V族化合物半导体单晶的制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201810941688.1
申请日
2014-03-11
公开(公告)号
CN108977888A
公开(公告)日
2018-12-11
发明(设计)人
野田朗 太田优 平野立一
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
C30B2940
IPC分类号
C30B2942 C30B1500 H01L310304 H01L310735 H01L3118
代理机构
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
陈巍;鲁炜
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
化合物半导体晶片、光电转换元件、以及III-V族化合物半导体单晶的制造方法 [P]. 
野田朗 ;
太田优 ;
平野立一 .
中国专利 :CN105247117A ,2016-01-13
[2]
III-V族化合物半导体晶片 [P]. 
三浦祥纪 ;
森本俊之 .
中国专利 :CN1090382C ,1998-12-16
[3]
III-V族化合物半导体发光元件和III-V族化合物半导体发光元件的制造方法 [P]. 
小鹿优太 ;
门胁嘉孝 .
日本专利 :CN119817194A ,2025-04-11
[4]
III-V族化合物半导体及其制造方法 [P]. 
清水诚也 ;
森岛进一 ;
佐佐木诚 .
中国专利 :CN100517571C ,2006-01-04
[5]
III-V族化合物半导体单晶基板及其制造方法 [P]. 
佐田野正崇 ;
鸿池一晓 ;
柳泽拓弥 ;
桥尾克司 .
日本专利 :CN119053733A ,2024-11-29
[6]
III-V族化合物半导体单晶基板及其制造方法 [P]. 
野田和希 ;
上松康二 ;
中西文毅 .
日本专利 :CN118355155A ,2024-07-16
[7]
III-V族化合物半导体装置的制造方法 [P]. 
中井荣治 .
中国专利 :CN112154535A ,2020-12-29
[8]
III-V族化合物半导体装置的制造方法 [P]. 
中井荣治 .
日本专利 :CN112154535B ,2024-04-30
[9]
III-V族化合物半导体基板和带有外延层的III-V族化合物半导体基板 [P]. 
藤原新也 ;
三好知顕 .
中国专利 :CN110234801B ,2019-09-13
[10]
III-V族化合物半导体基板和带有外延层的III-V族化合物半导体基板 [P]. 
藤原新也 ;
三好知顕 .
中国专利 :CN112838122A ,2021-05-25