高密度氧化铌溅射靶材的制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210099055.3

申请日：

2012-04-06

公开(公告)号：

CN102659405A

公开(公告)日：

2012-09-12

发明(设计)人：

扈百直孙本双刘孝宁征卫星马文卫

申请人：

申请人地址：

753000 宁夏回族自治区石嘴山市大武口冶金路119号

IPC主分类号：

C04B35495

IPC分类号：

C04B35626 C04B35645

代理机构：

宁夏专利服务中心 64100

代理人：

叶学军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-11-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101343310504 IPC(主分类):C04B 35/495 专利申请号:2012100990553 申请日:20120406
2014-02-26	授权	授权
2018-08-17	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):C04B 35/495 登记生效日:20180731 变更事项:专利权人变更前权利人:西北稀有金属材料研究院宁夏有限公司变更后权利人:宁夏中色新材料有限公司变更事项:地址变更前权利人:753000 宁夏回族自治区石嘴山市大武口冶金路119号变更后权利人:753000 宁夏石嘴山市大武口冶金路119号
2012-09-12	公开	公开
2018-08-07	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C04B 35/495 变更事项:专利权人变更前:西北稀有金属材料研究院变更后:西北稀有金属材料研究院宁夏有限公司变更事项:地址变更前:753000 宁夏回族自治区石嘴山市大武口冶金路119号变更后:753000 宁夏回族自治区石嘴山市大武口冶金路119号

共 50 条

[1]

氧化铌溅射靶材的制备方法 [P].

施玉良 .

中国专利 :CN106567046A ,2017-04-19

[2]

一种低氧高密度Ru溅射靶材、制备方法及其用途 [P].

王传军 ;

闻明 ;

巢云秀 ;

沈月 ;

施晨琦 ;

许彦亭 ;

李思勰 ;

刘牛 ;

普志辉 .

中国专利 :CN116875952B ,2025-06-13

[3]

ITO溅射靶材的制备方法 [P].

扈百直 ;

孙本双 ;

刘孝宁 ;

李凤光 ;

征卫星 ;

马文卫 ;

张红梅 .

中国专利 :CN101575203B ,2009-11-11

[4]

一种高密度铟锡锌氧化物溅射靶材的制备方法 [P].

刘洋 ;

孙本双 ;

赵合涛 ;

刘笑开 ;

刘苗 ;

王之君 ;

何季麟 .

中国专利 :CN119143498A ,2024-12-17

[5]

制造高密度氧化锡铟(ITO)溅射靶 [P].

D·巴鲁克 .

中国专利 :CN103221572A ,2013-07-24

[6]

一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺 [P].

石煜 ;

田晓磊 ;

盛明亮 ;

李小龙 .

中国专利 :CN113355626A ,2021-09-07

[7]

用于制造高密度ITO溅射靶的方法 [P].

C·E·金 ;

D·俾路支 .

中国专利 :CN101910087A ,2010-12-08

[8]

一种高密度低成本氧化锌铝溅射靶材的制造方法 [P].

孔伟华 .

中国专利 :CN102212781A ,2011-10-12

[9]

一种制备铌溅射靶材的方法 [P].

宜楠 ;

张锟宇 ;

孙毅 ;

王飞 ;

李俊 ;

于乐庆 ;

赵鸿磊 .

中国专利 :CN101660130A ,2010-03-03

[10]

一种高纯高密度特点的碳化硼溅射靶材的制备方法 [P].

姜思源 ;

刘兆毅 .

中国专利 :CN114014670A ,2022-02-08

← 1 2 3 4 5 →