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一种硅衬底上N极性面高频GaN整流器外延结构
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201721781485.8
申请日
:
2017-12-19
公开(公告)号
:
CN207925473U
公开(公告)日
:
2018-09-28
发明(设计)人
:
王文樑
李国强
李筱婵
李媛
申请人
:
申请人地址
:
511458 广东省广州市南沙区环市大道南路25号华工大广州产研院
IPC主分类号
:
H01L2904
IPC分类号
:
H01L2906
H01L29861
H01L21329
代理机构
:
广州市华学知识产权代理有限公司 44245
代理人
:
陈文姬
法律状态
:
避免重复授权放弃专利权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-07-16
避免重复授权放弃专利权
避免重复授予专利权 IPC(主分类):H01L 29/04 申请日:20171219 授权公告日:20180928 放弃生效日:20190716
2018-09-28
授权
授权
共 50 条
[1]
一种硅衬底上N极性面高频GaN整流器外延结构及其制备方法
[P].
王文樑
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王文樑
;
李国强
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李国强
;
李筱婵
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李筱婵
;
李媛
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李媛
.
中国专利
:CN108010956B
,2018-05-08
[2]
一种硅衬底上GaN/二维AlN异质结整流器
[P].
王文樑
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王文樑
;
李国强
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李国强
;
杨昱辉
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杨昱辉
;
孔德麒
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孔德麒
;
邢志恒
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邢志恒
.
中国专利
:CN212010980U
,2020-11-24
[3]
一种硅衬底上GaN/二维AlN异质结整流器及其制备方法
[P].
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机构:
王文樑
;
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机构:
李国强
;
杨昱辉
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机构:
华南理工大学
华南理工大学
杨昱辉
;
孔德麒
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机构:
华南理工大学
华南理工大学
孔德麒
;
邢志恒
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机构:
华南理工大学
华南理工大学
邢志恒
.
中国专利
:CN111430457B
,2024-10-01
[4]
一种硅衬底上GaN/二维AlN异质结整流器及其制备方法
[P].
王文樑
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王文樑
;
李国强
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李国强
;
杨昱辉
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杨昱辉
;
孔德麒
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孔德麒
;
邢志恒
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邢志恒
.
中国专利
:CN111430457A
,2020-07-17
[5]
N极性GaN/AlGaN基射频整流器及其制备方法
[P].
王文樑
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王文樑
;
江弘胜
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江弘胜
;
李国强
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李国强
;
李林浩
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李林浩
;
张景鸿
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张景鸿
.
中国专利
:CN114242782A
,2022-03-25
[6]
N极性GaN/AlGaN基整流器及其制备方法
[P].
王文樑
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王文樑
;
李灏
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李灏
;
侯冬曼
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侯冬曼
;
李国强
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李国强
;
林廷钧
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林廷钧
.
中国专利
:CN114864657A
,2022-08-05
[7]
N极性GaN/AlGaN基整流器及其制备方法
[P].
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机构:
王文樑
;
李灏
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机构:
华南理工大学
华南理工大学
李灏
;
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机构:
侯冬曼
;
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机构:
李国强
;
林廷钧
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机构:
华南理工大学
华南理工大学
林廷钧
.
中国专利
:CN114864657B
,2025-06-17
[8]
一种高频整流器
[P].
王琴
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王琴
;
徐祖平
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徐祖平
;
尹俊
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尹俊
;
王永军
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王永军
.
中国专利
:CN209748424U
,2019-12-06
[9]
一种高频整流器
[P].
高港
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高港
.
中国专利
:CN216819723U
,2022-06-24
[10]
一种N极性AlN/GaN外延结构及其制备方法
[P].
林凡
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
林凡
;
倪健
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
倪健
;
许翔
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
许翔
;
张高俊
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
张高俊
;
周均铭
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
周均铭
.
中国专利
:CN119653801A
,2025-03-18
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