一种硅衬底上GaN/二维AlN异质结整流器及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010346191.2
申请日
2020-04-27
公开(公告)号
CN111430457A
公开(公告)日
2020-07-17
发明(设计)人
王文樑 李国强 杨昱辉 孔德麒 邢志恒
申请人
申请人地址
510640 广东省广州市天河区五山路381号
IPC主分类号
H01L29778
IPC分类号
H01L2906 H01L2945 H01L2947 H01L21335
代理机构
广州粤高专利商标代理有限公司 44102
代理人
何淑珍;冯振宁
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种硅衬底上GaN/二维AlN异质结整流器 [P]. 
王文樑 ;
李国强 ;
杨昱辉 ;
孔德麒 ;
邢志恒 .
中国专利 :CN212010980U ,2020-11-24
[2]
一种硅衬底上GaN/二维AlN异质结整流器及其制备方法 [P]. 
王文樑 ;
李国强 ;
杨昱辉 ;
孔德麒 ;
邢志恒 .
中国专利 :CN111430457B ,2024-10-01
[3]
一种基于Cu衬底基GaN整流器及其制备方法 [P]. 
李国强 ;
胡智凯 ;
王文樑 ;
唐鑫 .
中国专利 :CN111009467B ,2020-04-14
[4]
一种硅衬底上N极性面高频GaN整流器外延结构及其制备方法 [P]. 
王文樑 ;
李国强 ;
李筱婵 ;
李媛 .
中国专利 :CN108010956B ,2018-05-08
[5]
一种硅衬底上N极性面高频GaN整流器外延结构 [P]. 
王文樑 ;
李国强 ;
李筱婵 ;
李媛 .
中国专利 :CN207925473U ,2018-09-28
[6]
金刚石衬底上的AlN/GaN/ScAlN/GaN双沟道异质结及制备方法 [P]. 
许晟瑞 ;
王若冰 ;
许文强 ;
赵颖 ;
张金风 ;
张雅超 ;
张进成 ;
郝跃 .
中国专利 :CN113193040A ,2021-07-30
[7]
基于AlN衬底上AlN缓冲层的异质结HEMT器件及制备方法 [P]. 
周弘 ;
张超群 ;
胡超杰 ;
刘志宏 ;
张进成 ;
郝跃 .
中国专利 :CN119562556A ,2025-03-04
[8]
N极性GaN/AlGaN基射频整流器及其制备方法 [P]. 
王文樑 ;
江弘胜 ;
李国强 ;
李林浩 ;
张景鸿 .
中国专利 :CN114242782A ,2022-03-25
[9]
N极性GaN/AlGaN基整流器及其制备方法 [P]. 
王文樑 ;
李灏 ;
侯冬曼 ;
李国强 ;
林廷钧 .
中国专利 :CN114864657A ,2022-08-05
[10]
N极性GaN/AlGaN基整流器及其制备方法 [P]. 
王文樑 ;
李灏 ;
侯冬曼 ;
李国强 ;
林廷钧 .
中国专利 :CN114864657B ,2025-06-17