一种激光干涉光刻系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN00223444.0

申请日：

2000-06-21

公开(公告)号：

CN2432001Y

公开(公告)日：

2001-05-30

发明(设计)人：

张锦冯伯儒蒋世磊候德胜宗德蓉苏平

申请人：

申请人地址：

610209四川省双流350信箱

IPC主分类号：

B23K2618

IPC分类号：

代理机构：

中国科学院成都专利事务所

代理人：

张一红;王庆理

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2001-05-30	授权	授权
2006-08-16	专利权的终止未缴年费专利权终止	专利权的终止未缴年费专利权终止

共 50 条

[1]

一种激光干涉光刻系统 [P].

顾芯铭 ;

刘雨哲 ;

周延民 .

中国专利 :CN109521651A ,2019-03-26

[2]

一种激光干涉光刻系统 [P].

彭长四 ;

董晓轩 ;

张伟 ;

顾小勇 ;

周云 ;

刘维萍 .

中国专利 :CN102236267B ,2011-11-09

[3]

激光干涉光刻系统 [P].

王磊杰 ;

朱煜 ;

张鸣 ;

徐继涛 ;

李鑫 ;

成荣 ;

杨开明 ;

胡金春 .

中国专利 :CN110806680A ,2020-02-18

[4]

一种激光干涉光刻系统 [P].

邹快盛 ;

吴青晴 .

中国专利 :CN218332292U ,2023-01-17

[5]

一种激光干涉光刻系统 [P].

朱煜 ;

王磊杰 ;

张鸣 ;

刘召 ;

杨开明 ;

胡金春 ;

尹文生 ;

穆海华 ;

胡楚雄 ;

徐登峰 ;

成荣 .

中国专利 :CN103092003B ,2013-05-08

[6]

一种激光干涉光刻系统 [P].

王杰 ;

李娜 .

中国专利 :CN115453826A ,2022-12-09

[7]

一种干涉光刻多光束形成系统 [P].

冯伯儒 ;

张锦 ;

蒋世磊 ;

宗德蓉 ;

苏平 .

中国专利 :CN2449258Y ,2001-09-19

[8]

一种激光干涉光刻光学系统 [P].

翁占坤 ;

王朝阳 ;

曹亮 ;

王璐 ;

董莉彤 ;

王作斌 ;

宋正勋 ;

许红梅 ;

刘兰娇 ;

李理 .

中国专利 :CN106353974A ,2017-01-25

[9]

一种激光干涉光刻光学系统 [P].

翁占坤 ;

王朝阳 ;

曹亮 ;

王璐 ;

董莉彤 ;

王作斌 ;

宋正勋 ;

许红梅 ;

刘兰娇 ;

李理 .

中国专利 :CN206557526U ,2017-10-13

[10]

采用全息光学元件的激光干涉光刻方法及其光刻系统 [P].

张锦 ;

冯伯儒 .

中国专利 :CN1690857A ,2005-11-02

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