化学气相沉积设备和使用该设备制造发光器件的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180061432.8

申请日：

2011-12-20

公开(公告)号：

CN103329249A

公开(公告)日：

2013-09-25

发明(设计)人：

金俊佑竹谷元伸许寅会金秋浩李在凤

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

H01L21205

IPC分类号：

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

陈源;张帆

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-08-10	授权	授权
2013-09-25	公开	公开
2014-01-29	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101565754523 IPC(主分类):H01L 21/205 专利申请号:2011800614328 申请日:20111220

共 50 条

[1]

制造半导体发光器件的方法以及化学气相沉积设备 [P].

韩尚宪 ;

金南星 ;

金东俊 ;

司空坦 ;

申东益 ;

李焘英 ;

李庭旭 .

中国专利 :CN103996753A ,2014-08-20

[2]

化学气相沉积设备和化学气相沉积设备的制作方法 [P].

张添水 .

中国专利 :CN117646188A ,2024-03-05

[3]

化学气相沉积设备 [P].

金昶成 ;

刘相德 ;

洪钟波 ;

沈智慧 ;

李元申 .

中国专利 :CN102230167A ,2011-11-02

[4]

化学气相沉积设备 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN102108498B ,2011-06-29

[5]

化学气相沉积设备 [P].

金宰湖 ;

朴相俊 .

中国专利 :CN1302152C ,2002-10-23

[6]

化学气相沉积设备 [P].

仰卫 .

中国专利 :CN107435141A ,2017-12-05

[7]

化学气相沉积设备 [P].

周向阳 .

中国专利 :CN223373222U ,2025-09-23

[8]

化学气相沉积设备 [P].

金昶成 ;

刘相德 ;

洪钟波 ;

沈智慧 ;

李元申 .

中国专利 :CN101469411B ,2009-07-01

[9]

化学气相沉积设备 [P].

金宰湖 ;

朴相俊 .

中国专利 :CN100540734C ,2006-10-18

[10]

化学气相沉积设备 [P].

周向阳 .

中国专利 :CN223268760U ,2025-08-26

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