真空处理装置

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专利类型
发明
申请号
CN200610128913.7
申请日
2006-09-01
公开(公告)号
CN1925110A
公开(公告)日
2007-03-07
发明(设计)人
志村昭彦 近藤裕志 锅山裕树
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
H01L2100
IPC分类号
H01L21677
代理机构
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人
龙淳
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
真空处理装置 [P]. 
志村昭彦 ;
近藤裕志 ;
锅山裕树 .
中国专利 :CN101441995B ,2009-05-27
[2]
真空处理装置 [P]. 
肉仓真人 ;
森胜彦 ;
中岛利夫 ;
新井进 .
中国专利 :CN1702024B ,2005-11-30
[3]
真空处理装置 [P]. 
肉仓真人 ;
森胜彦 ;
中岛利夫 ;
新井进 .
中国专利 :CN101916716A ,2010-12-15
[4]
真空处理装置 [P]. 
阪上弘敏 ;
北沢僚也 ;
矶部辰德 .
日本专利 :CN116745458B ,2025-10-03
[5]
真空处理装置 [P]. 
藤本信也 ;
林信博 ;
广野贵启 ;
多田勋 .
中国专利 :CN103180484B ,2015-02-04
[6]
真空处理装置 [P]. 
广野贵启 ;
多田勋 .
中国专利 :CN103154311A ,2013-06-12
[7]
真空处理装置 [P]. 
饭岛荣一 .
中国专利 :CN101103136B ,2008-01-09
[8]
真空处理装置 [P]. 
矶村僚一 ;
田内勤 ;
近藤英明 ;
小林满知明 .
中国专利 :CN103208441A ,2013-07-17
[9]
真空处理装置 [P]. 
南繁治 ;
井上智己 .
中国专利 :CN103765571A ,2014-04-30
[10]
真空处理装置、真空处理方法 [P]. 
饭岛荣一 ;
池田裕人 ;
箱守宗人 .
中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29