真空处理装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201280038556.9
申请日
2012-08-02
公开(公告)号
CN103765571A
公开(公告)日
2014-04-30
发明(设计)人
南繁治 井上智己
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L21677
IPC分类号
H01L213065 H01L2131
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
洪秀川
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
真空处理装置和真空处理方法 [P]. 
木本孝仁 ;
藤井琢也 ;
坂本纯一 ;
佐藤昌敏 .
日本专利 :CN120330662A ,2025-07-18
[2]
真空处理装置 [P]. 
志村昭彦 ;
近藤裕志 ;
锅山裕树 .
中国专利 :CN101441995B ,2009-05-27
[3]
真空处理装置 [P]. 
宫谷武尚 ;
神保洋介 ;
山本良明 ;
江藤谦次 ;
阿部洋一 .
日本专利 :CN113261390B ,2024-06-14
[4]
真空处理装置 [P]. 
石桥启次 ;
田中雅彦 ;
熊谷晃 ;
池本学 ;
汤田克久 .
中国专利 :CN101812675A ,2010-08-25
[5]
真空处理装置 [P]. 
志村昭彦 ;
近藤裕志 ;
锅山裕树 .
中国专利 :CN1925110A ,2007-03-07
[6]
真空处理装置 [P]. 
肉仓真人 ;
森胜彦 ;
中岛利夫 ;
新井进 .
中国专利 :CN1702024B ,2005-11-30
[7]
真空处理装置 [P]. 
肉仓真人 ;
森胜彦 ;
中岛利夫 ;
新井进 .
中国专利 :CN101916716A ,2010-12-15
[8]
真空处理装置 [P]. 
藤本信也 ;
林信博 ;
广野贵启 ;
多田勋 .
中国专利 :CN103180484B ,2015-02-04
[9]
真空处理装置 [P]. 
广野贵启 ;
多田勋 .
中国专利 :CN103154311A ,2013-06-12
[10]
真空处理装置 [P]. 
宫谷武尚 ;
神保洋介 ;
山本良明 ;
江藤谦次 ;
阿部洋一 .
中国专利 :CN113261390A ,2021-08-13