真空处理装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210054587.5
申请日
2012-03-05
公开(公告)号
CN103208441A
公开(公告)日
2013-07-17
发明(设计)人
矶村僚一 田内勤 近藤英明 小林满知明
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L2167
IPC分类号
H01L21677
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
史雁鸣
法律状态
公开
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
真空处理装置 [P]. 
矶村僚一 ;
田内勤 ;
近藤英明 .
中国专利 :CN102347256A ,2012-02-08
[2]
真空处理装置以及真空处理方法 [P]. 
仲田辉男 ;
野木庆太 ;
井上智己 ;
川口道则 .
中国专利 :CN102800615A ,2012-11-28
[3]
真空处理装置 [P]. 
志村昭彦 ;
近藤裕志 ;
锅山裕树 .
中国专利 :CN101441995B ,2009-05-27
[4]
真空处理装置 [P]. 
矶村僚一 ;
田内勤 ;
近藤英明 .
中国专利 :CN102569016B ,2012-07-11
[5]
真空处理装置 [P]. 
志村昭彦 ;
近藤裕志 ;
锅山裕树 .
中国专利 :CN1925110A ,2007-03-07
[6]
真空处理装置 [P]. 
肉仓真人 ;
森胜彦 ;
中岛利夫 ;
新井进 .
中国专利 :CN1702024B ,2005-11-30
[7]
真空处理装置 [P]. 
长山巧 ;
水落真树 ;
藤田真志 ;
柴崎智隆 ;
细渕启一郎 .
日本专利 :CN120820727A ,2025-10-21
[8]
真空处理装置 [P]. 
肉仓真人 ;
森胜彦 ;
中岛利夫 ;
新井进 .
中国专利 :CN101916716A ,2010-12-15
[9]
真空处理装置 [P]. 
矶村僚一 ;
田内勤 ;
近藤英明 .
中国专利 :CN102299043A ,2011-12-28
[10]
真空处理装置 [P]. 
于盛楠 .
日本专利 :CN113728422B ,2024-01-09