真空处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080005017.X

申请日：

2020-03-24

公开(公告)号：

CN113728422B

公开(公告)日：

2024-01-09

发明(设计)人：

于盛楠

申请人：

株式会社日立高新技术

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21/677

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

刘建

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-01-09	授权	授权

共 50 条

[1]

真空处理装置 [P].

于盛楠 .

中国专利 :CN113728422A ,2021-11-30

[2]

真空处理装置以及真空处理方法 [P].

仲田辉男 ;

野木庆太 ;

井上智己 ;

川口道则 .

中国专利 :CN102800615A ,2012-11-28

[3]

真空处理装置 [P].

矶村僚一 ;

田内勤 ;

近藤英明 .

中国专利 :CN102347256A ,2012-02-08

[4]

真空处理装置 [P].

长山巧 ;

水落真树 ;

藤田真志 ;

柴崎智隆 ;

细渕启一郎 .

日本专利 :CN120820727A ,2025-10-21

[5]

真空处理装置 [P].

矶村僚一 ;

田内勤 ;

近藤英明 ;

小林满知明 .

中国专利 :CN103208441A ,2013-07-17

[6]

真空处理装置、真空处理方法 [P].

饭岛荣一 ;

池田裕人 ;

箱守宗人 .

中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29

[7]

真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法 [P].

山岸孝幸 ;

小林民宏 .

中国专利 :CN110610873B ,2019-12-24

[8]

真空处理装置及真空处理方法 [P].

佐竹彻 .

中国专利 :CN103392027A ,2013-11-13

[9]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

福田义朗 ;

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

杉村道成 .

日本专利 :CN117626213A ,2024-03-01

[10]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

木本孝仁 ;

藤井琢也 ;

坂本纯一 ;

佐藤昌敏 .

日本专利 :CN120330662A ,2025-07-18

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