真空处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110036139.8

申请日：

2011-02-09

公开(公告)号：

CN102569016B

公开(公告)日：

2012-07-11

发明(设计)人：

矶村僚一田内勤近藤英明

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L21677

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

李洋

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-09-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101324737597 IPC(主分类):H01L 21/00 专利申请号:2011100361398 申请日:20110209
2015-04-15	授权	授权
2012-07-11	公开	公开

共 50 条

[1]

真空处理装置 [P].

矶村僚一 ;

田内勤 ;

近藤英明 ;

小林满知明 .

中国专利 :CN103208441A ,2013-07-17

[2]

真空处理装置、真空处理方法 [P].

饭岛荣一 ;

池田裕人 ;

箱守宗人 .

中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29

[3]

真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法 [P].

山岸孝幸 ;

小林民宏 .

中国专利 :CN110610873B ,2019-12-24

[4]

真空处理装置及真空处理方法 [P].

佐竹彻 .

中国专利 :CN103392027A ,2013-11-13

[5]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

福田义朗 ;

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

杉村道成 .

日本专利 :CN117626213A ,2024-03-01

[6]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

木本孝仁 ;

藤井琢也 ;

坂本纯一 ;

佐藤昌敏 .

日本专利 :CN120330662A ,2025-07-18

[7]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

近藤昌树 ;

林辉幸 ;

齐藤美佐子 .

中国专利 :CN101310041A ,2008-11-19

[8]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

福田义朗 ;

前平谦 .

日本专利 :CN117587377A ,2024-02-23

[9]

真空处理方法以及真空处理装置 [P].

宫原弘臣 ;

西宫立享 .

中国专利 :CN101548365B ,2009-09-30

[10]

真空处理方法及真空处理装置 [P].

津田英司 .

中国专利 :CN105483639B ,2016-04-13

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