可调整曝光强度的曝光系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410298957.9

申请日：

2014-06-27

公开(公告)号：

CN105319856A

公开(公告)日：

2016-02-10

发明(设计)人：

陈赞仁田中智树施誌华

申请人：

申请人地址：

中国台湾台南市新市区南科五路6号3楼

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B2608

代理机构：

广东国欣律师事务所 44221

代理人：

李文

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-02-10	公开	公开
2016-03-09	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101650092081 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014102989579 申请日:20140627
2018-03-16	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F 7/20 申请公布日:20160210

共 50 条

[1]

曝光系统与曝光工艺 [P].

林承叡 ;

陈右儒 ;

高振宽 ;

郑竹均 .

中国专利 :CN104635382A ,2015-05-20

[2]

曝光系统、曝光系统的控制装置以及曝光系统的控制方法 [P].

大畑公孝 ;

木村忠信 ;

大河原直人 .

中国专利 :CN103999192A ,2014-08-20

[3]

曝光系统及曝光方法 [P].

陈右儒 ;

陈骏腾 ;

曾耀腾 ;

高振宽 .

中国专利 :CN106773329A ,2017-05-31

[4]

曝光系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

川上雄介 ;

布川泰辉 .

中国专利 :CN113574459A ,2021-10-29

[5]

硅片边缘曝光系统及其光强控制方法 [P].

谢威 ;

徐兵 .

中国专利 :CN101221370A ,2008-07-16

[6]

投影曝光系统 [P].

朱开星 ;

华成 ;

易文涛 ;

朱菁 ;

杜昆 .

中国专利 :CN119937254A ,2025-05-06

[7]

光刻曝光系统 [P].

刘国淦 .

中国专利 :CN104698768A ,2015-06-10

[8]

曝光系统及曝光系统的降温方法 [P].

赵鹏 ;

陈超 ;

任轩达 .

中国专利 :CN113917804A ,2022-01-11

[9]

曝光系统的控制方法和曝光系统 [P].

卞洪飞 ;

董帅 ;

高利军 .

中国专利 :CN112596346B ,2021-04-02

[10]

曝光系统 [P].

崔凤珍 ;

金龙焕 .

中国专利 :CN103119519B ,2013-05-22

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