硅片边缘曝光系统及其光强控制方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810033056.1

申请日：

2008-01-24

公开(公告)号：

CN101221370A

公开(公告)日：

2008-07-16

发明(设计)人：

谢威徐兵

申请人：

申请人地址：

201203上海市张江高科技园区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-07-16	公开	公开
2017-05-31	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101752145140 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2008100330561 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号变更后:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
2010-06-02	授权	授权
2008-09-10	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

曝光系统、曝光系统的控制装置以及曝光系统的控制方法 [P].

大畑公孝 ;

木村忠信 ;

大河原直人 .

中国专利 :CN103999192A ,2014-08-20

[2]

边缘曝光装置及其控制方法 [P].

蔡巍 ;

徐兵 ;

吕晓薇 ;

李中秋 .

中国专利 :CN101498897A ,2009-08-05

[3]

曝光系统及其控制方法 [P].

金乙泰 ;

李成进 ;

朴相玄 ;

裴祥佑 .

中国专利 :CN101419408B ,2009-04-29

[4]

可调整曝光强度的曝光系统 [P].

陈赞仁 ;

田中智树 ;

施誌华 .

中国专利 :CN105319856A ,2016-02-10

[5]

一种边缘曝光系统和边缘曝光方法 [P].

李煜芝 .

中国专利 :CN104950582B ,2015-09-30

[6]

曝光系统及其曝光方法 [P].

林本坚 .

中国专利 :CN1490673A ,2004-04-21

[7]

曝光系统的控制方法和曝光系统 [P].

卞洪飞 ;

董帅 ;

高利军 .

中国专利 :CN112596346B ,2021-04-02

[8]

投影曝光系统及其控制方法 [P].

常文博 ;

李月 ;

肖月磊 ;

安齐昌 ;

曹雪 ;

冯昱霖 ;

韩基挏 ;

周毅 ;

王立会 ;

魏秋旭 ;

吴艺凡 ;

曲峰 .

中国专利 :CN114755894A ,2022-07-15

[9]

曝光系统与曝光工艺 [P].

林承叡 ;

陈右儒 ;

高振宽 ;

郑竹均 .

中国专利 :CN104635382A ,2015-05-20

[10]

曝光系统及曝光方法 [P].

陈右儒 ;

陈骏腾 ;

曾耀腾 ;

高振宽 .

中国专利 :CN106773329A ,2017-05-31

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