半导体结构的形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201410736246.5
申请日
2014-12-04
公开(公告)号
CN105719996B
公开(公告)日
2016-06-29
发明(设计)人
邓浩 徐建华 肖莉红
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L21762
IPC分类号
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
应战;骆苏华
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构的形成方法 [P]. 
胡华勇 .
中国专利 :CN103531444B ,2014-01-22
[2]
半导体结构的形成方法 [P]. 
张振兴 ;
奚裴 ;
王百钱 .
中国专利 :CN102931074A ,2013-02-13
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半导体结构及其形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN105655253B ,2016-06-08
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半导体结构及其形成方法 [P]. 
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半导体结构及其形成方法 [P]. 
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半导体结构及形成方法 [P]. 
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中国专利 :CN103632977B ,2014-03-12
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半导体结构及其形成方法 [P]. 
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中国专利 :CN113539971B ,2021-10-22
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半导体结构及其形成方法 [P]. 
禹国宾 .
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半导体结构及其形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN105990341B ,2016-10-05
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半导体结构及其形成方法 [P]. 
米红星 ;
王鹏 ;
李洋 ;
吴琼 ;
郑磊 .
中国专利 :CN117790400A ,2024-03-29