基板研磨装置及基板研磨方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010012186.8

申请日：

2020-01-07

公开(公告)号：

CN111152095A

公开(公告)日：

2020-05-15

发明(设计)人：

周文涛

申请人：

申请人地址：

430079 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室

IPC主分类号：

B24B910

IPC分类号：

B24B4912 B24B3700 B24B3734 B24B100 B08B302 B08B1104

代理机构：

深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570

代理人：

刁文魁

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-15	公开	公开
2022-07-01	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B24B 9/10 申请公布日:20200515
2020-06-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 9/10 申请日:20200107

共 50 条

[1]

基板研磨装置、基板研磨方法、研磨装置及研磨方法 [P].

吉田笃史 ;

石井游 ;

中西正行 .

日本专利 :CN119212826A ,2024-12-27

[2]

基板研磨装置及基板研磨方法 [P].

福永明 ;

渡边和英 ;

小畠严贵 ;

辻村学 .

中国专利 :CN110663103A ,2020-01-07

[3]

基板研磨装置及基板研磨方法 [P].

渡边夕贵 ;

八木圭太 .

中国专利 :CN109290942B ,2019-02-01

[4]

基板研磨装置及基板研磨方法 [P].

西尾干夫 .

中国专利 :CN1494982A ,2004-05-12

[5]

基板研磨方法、程序及基板研磨装置 [P].

斋藤步 .

日本专利 :CN119546417A ,2025-02-28

[6]

基板研磨装置和基板研磨方法 [P].

藤本拓矢 ;

高田畅行 .

中国专利 :CN115139214A ,2022-10-04

[7]

基板研磨方法和基板研磨装置 [P].

椛沢雅志 ;

八木圭太 .

日本专利 :CN120095703A ,2025-06-06

[8]

基板研磨方法及び基板研磨装置[ja] [P].

KABASAWA MASASHI ;

YAGI KEITA .

日本专利 :JP2025089768A ,2025-06-16

[9]

基板研磨系统及方法和基板研磨装置 [P].

铃木佑多 ;

高桥太郎 ;

小川彰彦 ;

降矢滋行 ;

八木裕治 ;

高田畅行 ;

德永晋平 .

日本专利 :CN111604809B ,2024-05-31

[10]

基板的研磨装置及基板的研磨方法 [P].

久保岳 ;

木村宏 ;

横田稔 ;

宫下纯一 .

中国专利 :CN102416597A ,2012-04-18

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