金属抛光液和抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810087355.3

申请日：

2008-03-21

公开(公告)号：

CN101275057A

公开(公告)日：

2008-10-01

发明(设计)人：

山田彻菊池信稻叶正松野孝洋富贺敬充高桥和敬

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

C09G118

IPC分类号：

C09G102 C09K314 B24B2900 H01L21304

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

柳春琦

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-10-01	公开	公开
2010-02-10	实质审查的生效	实质审查的生效
2017-05-03	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101717366161 IPC(主分类):H01L 21/304 专利号:ZL2008100873553 申请日:20080321 授权公告日:20121121 终止日期:20160321
2012-11-21	授权	授权

共 50 条

[1]

金属抛光液和使用该金属抛光液的抛光方法 [P].

富贺敬充 ;

加藤知夫 .

中国专利 :CN101230238A ,2008-07-30

[2]

抛光液及使用该抛光液的抛光方法 [P].

上村哲也 .

中国专利 :CN101333417A ,2008-12-31

[3]

抛光液及应用该抛光液对CdS晶片抛光的抛光方法 [P].

李晖 ;

徐永宽 ;

程红娟 .

中国专利 :CN102952467A ,2013-03-06

[4]

抛光液及使用该抛光液的抛光方法 [P].

上村哲也 .

中国专利 :CN101397482A ,2009-04-01

[5]

抛光液和抛光方法 [P].

斋江俊之 .

中国专利 :CN101397480A ,2009-04-01

[6]

抛光液、抛光机以及抛光方法 [P].

王同庆 ;

王婕 ;

路新春 .

中国专利 :CN105773399A ,2016-07-20

[7]

抛光液加热装置，抛光液温度控制设备和抛光液输送系统 [P].

路新春 ;

潘燕 ;

沈攀 ;

何永勇 .

中国专利 :CN102175064A ,2011-09-07

[8]

金属材料的抛光液、抛光磨盘及抛光方法 [P].

白杨 ;

张志宇 ;

罗霄 ;

王孝坤 ;

张学军 .

中国专利 :CN113528027A ,2021-10-22

[9]

金属抛光液 [P].

高熠辉 .

中国专利 :CN102953063B ,2013-03-06

[10]

大尺寸硅片边缘的抛光液、抛光液制备方法及抛光方法 [P].

潘国顺 ;

陈高攀 ;

罗桂海 ;

罗海梅 ;

周艳 ;

潘立焱 .

中国专利 :CN113004804B ,2021-06-22

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