基板处理装置和基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810744557.4

申请日：

2015-07-23

公开(公告)号：

CN108878328B

公开(公告)日：

2018-11-23

发明(设计)人：

浅川雄二绿川洋平户田聪高桥宏幸

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L21687

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-23	授权	授权
2018-12-18	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20150723
2018-11-23	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

松浦广行 ;

中尾贤 .

中国专利 :CN101288157B ,2008-10-15

[2]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

浅川雄二 ;

绿川洋平 ;

户田聪 ;

高桥宏幸 .

中国专利 :CN105304526A ,2016-02-03

[3]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

仙波昌平 ;

吹野康彦 .

中国专利 :CN103426746A ,2013-12-04

[4]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

户田聪 ;

高桥哲朗 .

中国专利 :CN109075061A ,2018-12-21

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

奥格森·加尔斯蒂安 ;

哈鲁特温·梅利基扬 ;

金荣斌 ;

安宗奂 .

中国专利 :CN109545641A ,2019-03-29

[6]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

加藤寿 .

日本专利 :CN117650077A ,2024-03-05

[7]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

加藤寿 ;

佐藤润 ;

村田昌弘 ;

大下健太郎 ;

菅野智子 ;

三浦繁博 .

中国专利 :CN104831255A ,2015-08-12

[8]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

山口达也 .

日本专利 :CN121149086A ,2025-12-16

[9]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

高桥和也 ;

坂下训康 ;

远藤笃史 ;

小岛淳也 .

日本专利 :CN119585857A ,2025-03-07

[10]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

高桥信博 ;

萩原彩乃 ;

福田智朗 ;

铃木健斗 .

日本专利 :CN119654703A ,2025-03-18

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