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基板处理装置和基板处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201811105255.9
申请日
:
2018-09-21
公开(公告)号
:
CN109545641A
公开(公告)日
:
2019-03-29
发明(设计)人
:
奥格森·加尔斯蒂安
哈鲁特温·梅利基扬
金荣斌
安宗奂
申请人
:
申请人地址
:
韩国忠淸南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274
代理人
:
车今智
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-04-23
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20180921
2021-05-14
授权
授权
2019-03-29
公开
公开
共 50 条
[1]
基板处理方法和基板处理装置
[P].
东条利洋
论文数:
0
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0
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东条利洋
;
山口克昌
论文数:
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山口克昌
;
宇津木康史
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宇津木康史
.
中国专利
:CN105990194B
,2016-10-05
[2]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
桑特·阿雷克赖恩
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
桑特·阿雷克赖恩
;
具滋明
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
具滋明
.
韩国专利
:CN114695058B
,2025-11-18
[3]
基板处理方法和基板处理装置
[P].
加藤寿
论文数:
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加藤寿
;
佐藤润
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佐藤润
;
村田昌弘
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村田昌弘
;
大下健太郎
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大下健太郎
;
菅野智子
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菅野智子
;
三浦繁博
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三浦繁博
.
中国专利
:CN104831255A
,2015-08-12
[4]
基板处理方法和基板处理装置
[P].
山口达也
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山口达也
.
日本专利
:CN121149086A
,2025-12-16
[5]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
加藤寿
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加藤寿
;
菊地宏之
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菊地宏之
;
米泽雅人
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米泽雅人
;
佐藤润
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佐藤润
;
三浦繁博
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三浦繁博
.
中国专利
:CN104637769B
,2015-05-20
[6]
基板处理方法和基板处理装置
[P].
和田畅弘
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和田畅弘
;
小林真
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小林真
;
辻本宏
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辻本宏
;
田村纯
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田村纯
;
直井护
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直井护
.
中国专利
:CN102280339A
,2011-12-14
[7]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
桑特·阿雷克赖恩
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桑特·阿雷克赖恩
;
具滋明
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具滋明
.
中国专利
:CN114695058A
,2022-07-01
[8]
基板处理方法和基板处理装置
[P].
伊藤大地
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
伊藤大地
;
小川淳
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小川淳
.
日本专利
:CN120977871A
,2025-11-18
[9]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
户村幕树
论文数:
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户村幕树
.
中国专利
:CN115312381A
,2022-11-08
[10]
基板处理方法和基板处理装置
[P].
滨康孝
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
滨康孝
;
野吕基贵
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
野吕基贵
;
木野周
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
木野周
.
日本专利
:CN111834202B
,2025-06-20
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