基板处理装置和基板处理方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201811105255.9
申请日
2018-09-21
公开(公告)号
CN109545641A
公开(公告)日
2019-03-29
发明(设计)人
奥格森·加尔斯蒂安 哈鲁特温·梅利基扬 金荣斌 安宗奂
申请人
申请人地址
韩国忠淸南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
代理机构
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274
代理人
车今智
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
东条利洋 ;
山口克昌 ;
宇津木康史 .
中国专利 :CN105990194B ,2016-10-05
[2]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
桑特·阿雷克赖恩 ;
具滋明 .
韩国专利 :CN114695058B ,2025-11-18
[3]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
加藤寿 ;
佐藤润 ;
村田昌弘 ;
大下健太郎 ;
菅野智子 ;
三浦繁博 .
中国专利 :CN104831255A ,2015-08-12
[4]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
山口达也 .
日本专利 :CN121149086A ,2025-12-16
[5]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
加藤寿 ;
菊地宏之 ;
米泽雅人 ;
佐藤润 ;
三浦繁博 .
中国专利 :CN104637769B ,2015-05-20
[6]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
和田畅弘 ;
小林真 ;
辻本宏 ;
田村纯 ;
直井护 .
中国专利 :CN102280339A ,2011-12-14
[7]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
桑特·阿雷克赖恩 ;
具滋明 .
中国专利 :CN114695058A ,2022-07-01
[8]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
伊藤大地 ;
小川淳 .
日本专利 :CN120977871A ,2025-11-18
[9]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
户村幕树 .
中国专利 :CN115312381A ,2022-11-08
[10]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
滨康孝 ;
野吕基贵 ;
木野周 .
日本专利 :CN111834202B ,2025-06-20