基板处理方法和基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510071141.7

申请日：

2015-02-10

公开(公告)号：

CN104831255A

公开(公告)日：

2015-08-12

发明(设计)人：

加藤寿佐藤润村田昌弘大下健太郎菅野智子三浦繁博

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-09-07	授权	授权
2015-08-12	公开	公开
2016-10-26	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101683897664 IPC(主分类):C23C 16/455 专利申请号:2015100711417 申请日:20150210

共 50 条

[1]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

加藤寿 ;

菊地宏之 ;

米泽雅人 ;

佐藤润 ;

三浦繁博 .

中国专利 :CN104637769B ,2015-05-20

[2]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

内藤启 ;

三好秀典 ;

土场重树 .

中国专利 :CN114300332A ,2022-04-08

[3]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

桑特·阿雷克赖恩 ;

具滋明 .

韩国专利 :CN114695058B ,2025-11-18

[4]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

奥格森·加尔斯蒂安 ;

哈鲁特温·梅利基扬 ;

金荣斌 ;

安宗奂 .

中国专利 :CN109545641A ,2019-03-29

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

山涌纯 ;

守屋刚 .

中国专利 :CN101276737B ,2008-10-01

[6]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

山口达也 .

日本专利 :CN121149086A ,2025-12-16

[7]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

宫野真一 .

中国专利 :CN1825536A ,2006-08-30

[8]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

桑特·阿雷克赖恩 ;

具滋明 .

中国专利 :CN114695058A ,2022-07-01

[9]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

伊藤大地 ;

小川淳 .

日本专利 :CN120977871A ,2025-11-18

[10]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

羽根秀臣 ;

梅原隆人 .

中国专利 :CN104805415B ,2015-07-29

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