基板处理装置和基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810086841.3

申请日：

2008-03-19

公开(公告)号：

CN101276737B

公开(公告)日：

2008-10-01

发明(设计)人：

山涌纯守屋刚

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L213065 H01J3732

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-06-27	授权	授权
2008-11-26	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-10-01	公开	公开
2018-04-03	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20080319 授权公告日:20120627 终止日期:20170319

共 50 条

[1]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

山涌纯 ;

守屋刚 .

中国专利 :CN102637622A ,2012-08-15

[2]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

内藤启 ;

三好秀典 ;

土场重树 .

中国专利 :CN114300332A ,2022-04-08

[3]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

加藤寿 ;

佐藤润 ;

村田昌弘 ;

大下健太郎 ;

菅野智子 ;

三浦繁博 .

中国专利 :CN104831255A ,2015-08-12

[4]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

宫野真一 .

中国专利 :CN1825536A ,2006-08-30

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

加藤寿 ;

菊地宏之 ;

米泽雅人 ;

佐藤润 ;

三浦繁博 .

中国专利 :CN104637769B ,2015-05-20

[6]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

小川裕之 ;

大久保智也 ;

清水昭贵 .

中国专利 :CN108695133A ,2018-10-23

[7]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

内藤启 ;

三好秀典 ;

土场重树 .

日本专利 :CN114300332B ,2025-07-15

[8]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

桑特·阿雷克赖恩 ;

具滋明 .

韩国专利 :CN114695058B ,2025-11-18

[9]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

奥格森·加尔斯蒂安 ;

哈鲁特温·梅利基扬 ;

金荣斌 ;

安宗奂 .

中国专利 :CN109545641A ,2019-03-29

[10]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

西村荣一 ;

八田浩一 .

中国专利 :CN100514572C ,2008-01-02

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