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基板处理装置和基板处理方法

被引：0
申请号：
CN202210463121.4
申请日：
2022-04-28
公开(公告)号：
CN115312381A
公开(公告)日：
2022-11-08
发明(设计)人：
户村幕树
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L213065
IPC分类号：
H01L2167 H01L21683 H01J3732
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2022-11-08 公开 公开
共 50 条
[1]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
奥格森·加尔斯蒂安 ;
哈鲁特温·梅利基扬 ;
金荣斌 ;
安宗奂 .
中国专利 :CN109545641A ,2019-03-29
[2]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
西村荣一 ;
八田浩一 .
中国专利 :CN100514572C ,2008-01-02
[3]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
黄喆周 .
韩国专利 :CN119400724A ,2025-02-07
[4]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
东条利洋 ;
山口克昌 ;
宇津木康史 .
中国专利 :CN105990194B ,2016-10-05
[5]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
须田隆太郎 ;
户村幕树 .
中国专利 :CN115312382A ,2022-11-08
[6]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
富田正彦 ;
高桥宏幸 .
中国专利 :CN108352309B ,2018-07-31
[7]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
内藤启 ;
三好秀典 ;
土场重树 .
中国专利 :CN114300332A ,2022-04-08
[8]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
黄喆周 .
中国专利 :CN112912997A ,2021-06-04
[9]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
桑特·阿雷克赖恩 ;
具滋明 .
韩国专利 :CN114695058B ,2025-11-18
[10]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
户田聪 ;
高桥哲朗 .
中国专利 :CN109075061A ,2018-12-21
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