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得自含胺引发的多元醇的固化剂的高去除速率化学机械抛光垫
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201811387726.X
申请日
:
2018-11-20
公开(公告)号
:
CN109867764A
公开(公告)日
:
2019-06-11
发明(设计)人
:
B·钱
K-A·K·雷迪
G·C·雅各布
M·W·德格鲁特
申请人
:
申请人地址
:
美国特拉华州
IPC主分类号
:
C08G1866
IPC分类号
:
C08G1832
C08G1810
B24B3724
B24D1800
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
:
陈哲锋;胡嘉倩
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-07-05
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C08G 18/66 申请日:20181120
2021-11-23
授权
授权
2019-06-11
公开
公开
共 50 条
[1]
去除速率和平坦化改善的化学机械抛光垫
[P].
J·G·韦斯
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J·G·韦斯
;
邱南荣
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邱南荣
;
G·C·雅各布
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G·C·雅各布
;
钱百年
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钱百年
.
中国专利
:CN108994722A
,2018-12-14
[2]
用于眼科抛光的高去除速率化学机械抛光
[P].
P·布尚
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机构:
太平洋工业发展公司
太平洋工业发展公司
P·布尚
;
D·谢泼德
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机构:
太平洋工业发展公司
太平洋工业发展公司
D·谢泼德
;
A·桑卡兰
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机构:
太平洋工业发展公司
太平洋工业发展公司
A·桑卡兰
.
美国专利
:CN119013362A
,2024-11-22
[3]
柔软可修整的化学机械抛光垫
[P].
钱百年
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钱百年
;
D·B·詹姆斯
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D·B·詹姆斯
;
J·穆奈恩
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J·穆奈恩
;
叶逢蓟
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叶逢蓟
;
M·德格鲁特
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M·德格鲁特
.
中国专利
:CN103802018A
,2014-05-21
[4]
化学机械抛光垫的抛光层
[P].
朱顺全
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朱顺全
;
罗乙杰
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罗乙杰
;
刘敏
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刘敏
.
中国专利
:CN107457716B
,2017-12-12
[5]
具有终点检测窗口的化学机械抛光垫
[P].
钱百年
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钱百年
;
M·德格鲁特
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M·德格鲁特
.
中国专利
:CN104942701B
,2015-09-30
[6]
具有抛光层和窗口的化学机械抛光垫
[P].
钱百年
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钱百年
;
M·W·德格鲁特
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M·W·德格鲁特
;
J·穆奈恩
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J·穆奈恩
;
A·雷珀
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A·雷珀
;
M·詹森
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M·詹森
;
J·J·亨道恩
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J·J·亨道恩
;
J·G·诺兰
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J·G·诺兰
;
D·B·詹姆斯
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D·B·詹姆斯
;
叶逢蓟
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叶逢蓟
.
中国专利
:CN104942702A
,2015-09-30
[7]
化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫
[P].
梅英杰
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
梅英杰
;
鲁航
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
鲁航
;
王凯
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王凯
;
田骐源
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
田骐源
;
袁文杰
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
袁文杰
;
高彦升
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
高彦升
;
闫晨凯
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
闫晨凯
.
中国专利
:CN118721051B
,2025-08-29
[8]
化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫
[P].
梅英杰
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
梅英杰
;
鲁航
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
鲁航
;
王凯
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王凯
;
田骐源
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
田骐源
;
袁文杰
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
袁文杰
;
高彦升
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
高彦升
;
闫晨凯
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
闫晨凯
.
中国专利
:CN118721051A
,2024-10-01
[9]
由双重固化剂形成的抛光垫
[P].
叶逢蓟
论文数:
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机构:
杜邦电子材料控股股份有限公司
杜邦电子材料控股股份有限公司
叶逢蓟
.
美国专利
:CN119458141A
,2025-02-18
[10]
用于化学机械抛光垫的改进组合物以及由其制备的CMP垫
[P].
B·E·巴尔顿
论文数:
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B·E·巴尔顿
;
M·E·米尔斯
论文数:
0
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M·E·米尔斯
.
中国专利
:CN108115554B
,2018-06-05
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