得自含胺引发的多元醇的固化剂的高去除速率化学机械抛光垫

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201811387726.X
申请日
2018-11-20
公开(公告)号
CN109867764A
公开(公告)日
2019-06-11
发明(设计)人
B·钱 K-A·K·雷迪 G·C·雅各布 M·W·德格鲁特
申请人
申请人地址
美国特拉华州
IPC主分类号
C08G1866
IPC分类号
C08G1832 C08G1810 B24B3724 B24D1800
代理机构
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
陈哲锋;胡嘉倩
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
去除速率和平坦化改善的化学机械抛光垫 [P]. 
J·G·韦斯 ;
邱南荣 ;
G·C·雅各布 ;
钱百年 .
中国专利 :CN108994722A ,2018-12-14
[2]
用于眼科抛光的高去除速率化学机械抛光 [P]. 
P·布尚 ;
D·谢泼德 ;
A·桑卡兰 .
美国专利 :CN119013362A ,2024-11-22
[3]
柔软可修整的化学机械抛光垫 [P]. 
钱百年 ;
D·B·詹姆斯 ;
J·穆奈恩 ;
叶逢蓟 ;
M·德格鲁特 .
中国专利 :CN103802018A ,2014-05-21
[4]
化学机械抛光垫的抛光层 [P]. 
朱顺全 ;
罗乙杰 ;
刘敏 .
中国专利 :CN107457716B ,2017-12-12
[5]
具有终点检测窗口的化学机械抛光垫 [P]. 
钱百年 ;
M·德格鲁特 .
中国专利 :CN104942701B ,2015-09-30
[6]
具有抛光层和窗口的化学机械抛光垫 [P]. 
钱百年 ;
M·W·德格鲁特 ;
J·穆奈恩 ;
A·雷珀 ;
M·詹森 ;
J·J·亨道恩 ;
J·G·诺兰 ;
D·B·詹姆斯 ;
叶逢蓟 .
中国专利 :CN104942702A ,2015-09-30
[7]
化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫 [P]. 
梅英杰 ;
鲁航 ;
王凯 ;
田骐源 ;
袁文杰 ;
高彦升 ;
闫晨凯 .
中国专利 :CN118721051B ,2025-08-29
[8]
化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫 [P]. 
梅英杰 ;
鲁航 ;
王凯 ;
田骐源 ;
袁文杰 ;
高彦升 ;
闫晨凯 .
中国专利 :CN118721051A ,2024-10-01
[9]
由双重固化剂形成的抛光垫 [P]. 
叶逢蓟 .
美国专利 :CN119458141A ,2025-02-18
[10]
用于化学机械抛光垫的改进组合物以及由其制备的CMP垫 [P]. 
B·E·巴尔顿 ;
M·E·米尔斯 .
中国专利 :CN108115554B ,2018-06-05