一种清洗锗晶片的方法及其应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202210057083.2

申请日：

2022-01-19

公开(公告)号：

CN114082740B

公开(公告)日：

2022-02-25

发明(设计)人：

任殿胜史铎鹏刘岩

申请人：

申请人地址：

101149 北京市通州区工业开发区东二街4号

IPC主分类号：

B08B1100

IPC分类号：

B08B308 B08B300 B08B700

代理机构：

代理人：

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B08B 11/00 申请日:20220119
2022-04-08	授权	授权
2022-02-25	公开	公开

共 50 条

[1]

一种锗晶片的清洗方法 [P].

王金灵 ;

田玉莲 ;

吴倩 .

中国专利 :CN118455160A ,2024-08-09

[2]

一种干法清洗锗晶片的方法 [P].

史铎鹏 ;

任殿胜 .

中国专利 :CN114335256B ,2022-04-12

[3]

一种用于锗晶片的抛光液及其制备方法 [P].

仲跻和 .

中国专利 :CN101081965A ,2007-12-05

[4]

一种锗晶片清洗水槽 [P].

杨春柳 ;

刘汉保 ;

赵磊 ;

郭建新 ;

吕欣泽 .

中国专利 :CN216420554U ,2022-05-03

[5]

锗酸铋晶片的清洗工艺 [P].

卓世异 ;

黄维 ;

王乐星 ;

庄击勇 ;

陈辉 .

中国专利 :CN103230894A ,2013-08-07

[6]

一种锗晶片去胶清洗装置 [P].

吴彤 ;

刘新军 ;

沈思宇 ;

刘欣 ;

赵阿波 ;

朱雪锋 ;

顾佳玉 ;

张倩 ;

沙海涛 ;

陆逸婷 ;

周全法 .

中国专利 :CN220942109U ,2024-05-14

[7]

一种晶片夹具及其清洗方法 [P].

黄建友 ;

刘青彦 ;

杨清明 .

中国专利 :CN112547667A ,2021-03-26

[8]

一种晶片的清洗方法 [P].

黄军平 ;

马智勇 ;

李佩 ;

吴雪梅 .

中国专利 :CN102468125A ,2012-05-23

[9]

一种粗抛光锗晶片背面黏胶清洗方法 [P].

郭建新 ;

刘汉保 ;

韦华 ;

赵磊 ;

吕春富 ;

杨春柳 ;

李国芳 .

中国专利 :CN116004332B ,2024-05-10

[10]

磷化铟晶片及其表面清洗方法 [P].

徐卫 ;

任殿胜 ;

李娟 ;

刘文森 .

中国专利 :CN102456549A ,2012-05-16

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