一种干法清洗锗晶片的方法

被引：0

申请号：

CN202210228592.7

申请日：

2022-03-10

公开(公告)号：

CN114335256B

公开(公告)日：

2022-04-12

发明(设计)人：

史铎鹏任殿胜

申请人：

申请人地址：

101149 北京市通州区工业开发区东二街4号

IPC主分类号：

H01L3118

IPC分类号：

H01L2102 B08B700

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法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-20	授权	授权
2022-04-12	公开	公开
2022-04-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 31/18 申请日:20220310

共 50 条

[1]

一种锗晶片的清洗方法 [P].

王金灵 ;

田玉莲 ;

吴倩 .

中国专利 :CN118455160A ,2024-08-09

[2]

一种锗晶片清洗水槽 [P].

杨春柳 ;

刘汉保 ;

赵磊 ;

郭建新 ;

吕欣泽 .

中国专利 :CN216420554U ,2022-05-03

[3]

一种粗抛光锗晶片背面黏胶清洗方法 [P].

郭建新 ;

刘汉保 ;

韦华 ;

赵磊 ;

吕春富 ;

杨春柳 ;

李国芳 .

中国专利 :CN116004332B ,2024-05-10

[4]

一种减少锗晶片表面亮点数量的清洗工艺 [P].

郑金龙 ;

宋向荣 ;

周铁军 ;

马金峰 ;

曾琦 .

中国专利 :CN114210639A ,2022-03-22

[5]

一种清洗锗晶片的方法及其应用 [P].

任殿胜 ;

史铎鹏 ;

刘岩 .

中国专利 :CN114082740B ,2022-02-25

[6]

锗晶片清洗装置 [P].

杨春柳 ;

李芳艳 ;

周玲娟 ;

赵磊 ;

杨秋云 ;

刘汉保 ;

李世强 ;

韦华 ;

王茺 .

中国专利 :CN221754096U ,2024-09-24

[7]

一种锗晶片去胶清洗装置 [P].

吴彤 ;

刘新军 ;

沈思宇 ;

刘欣 ;

赵阿波 ;

朱雪锋 ;

顾佳玉 ;

张倩 ;

沙海涛 ;

陆逸婷 ;

周全法 .

中国专利 :CN220942109U ,2024-05-14

[8]

一种用于单面锗晶片的腐蚀方法 [P].

王元立 ;

陈美琳 ;

贺友华 .

中国专利 :CN114262941B ,2022-04-01

[9]

一种晶片清洗槽及晶片清洗方法 [P].

毕洪伟 ;

周一 .

中国专利 :CN112466780A ,2021-03-09

[10]

一种晶片清洗槽及晶片清洗方法 [P].

张正伟 ;

贺贤汉 ;

廖宗洁 ;

周伯成 .

中国专利 :CN113764313A ,2021-12-07

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