负型抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710659370.X

申请日：

2017-08-04

公开(公告)号：

CN107688278B

公开(公告)日：

2018-02-13

发明(设计)人：

增永惠一渡边聪小竹正晃山田健司大桥正树

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F7038

IPC分类号：

G03F7004 G03F700

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

何杨

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-02-13	公开	公开
2020-10-23	授权	授权
2018-03-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/038 申请日:20170804

共 50 条

[1]

抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

长峰高志 ;

中村刚 .

中国专利 :CN107844031A ,2018-03-27

[2]

化学增幅型负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法 [P].

小竹正晃 ;

渡边聪 ;

增永惠一 ;

山田健司 ;

大桥正树 .

中国专利 :CN108255015B ,2018-07-06

[3]

抗蚀基材、抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

樋田匠 ;

越后雅敏 ;

佐藤隆 ;

清水洋子 .

中国专利 :CN107533290B ,2018-01-02

[4]

负型抗蚀剂图案形成方法 [P].

草间理志 ;

菊地骏 ;

大桥正树 .

日本专利 :CN120610440A ,2025-09-09

[5]

抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

平野智之 ;

砂道智成 ;

桥本阳奈 ;

中川裕介 .

日本专利 :CN118401895A ,2024-07-26

[6]

抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

岩下勇介 ;

齐藤彩 ;

米村幸治 ;

中川裕介 .

日本专利 :CN119654597A ,2025-03-18

[7]

抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

平野智之 ;

砂道智成 ;

桥本阳奈 ;

中川裕介 .

日本专利 :CN118451370A ,2024-08-06

[8]

抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

高木大地 ;

中村刚 ;

板垣友祐 .

日本专利 :CN116745699B ,2024-03-22

[9]

化学增幅负型抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

小竹正晃 ;

渡边聪 ;

增永惠一 .

中国专利 :CN110531580A ,2019-12-03

[10]

正型抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法 [P].

染谷和也 ;

山口敏弘 ;

青木知三郎 .

中国专利 :CN102650830B ,2012-08-29

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