浅沟槽隔离结构的制作方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010604796.3

申请日：

2010-12-23

公开(公告)号：

CN102543822A

公开(公告)日：

2012-07-04

发明(设计)人：

孙士祯顾勇方浩姚长达

申请人：

申请人地址：

214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号

IPC主分类号：

H01L21762

IPC分类号：

H01L2131

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

骆苏华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-11-05	授权	授权
2012-09-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101322519052 IPC(主分类):H01L 21/762 专利申请号:2010106047963 申请日:20101223
2012-07-04	公开	公开
2017-12-19	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/762 登记生效日:20171130 变更事项:专利权人变更前权利人:无锡华润上华半导体有限公司变更后权利人:无锡华润上华科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号变更后权利人:214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号变更事项:共同专利权人变更前权利人:无锡华润上华科技有限公司

共 50 条

[1]

浅沟槽隔离结构的制作方法 [P].

徐涛 ;

陈宏 ;

王卉 ;

曹子贵 .

中国专利 :CN105914178A ,2016-08-31

[2]

浅沟槽隔离结构的制作方法 [P].

禹国宾 .

中国专利 :CN102487034A ,2012-06-06

[3]

浅沟槽隔离结构的制作方法 [P].

王津洲 ;

高大为 .

中国专利 :CN101728308A ,2010-06-09

[4]

浅沟槽隔离结构及其制作方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN107994016A ,2018-05-04

[5]

浅沟槽隔离结构制作方法 [P].

胡亚兰 ;

刘佳磊 .

中国专利 :CN102130036A ,2011-07-20

[6]

浅沟槽隔离结构的制作方法 [P].

李敏 .

中国专利 :CN102097356B ,2011-06-15

[7]

浅沟槽隔离结构的制作方法 [P].

蒋阳波 ;

陈正敏 ;

聂广宇 .

中国专利 :CN102403258A ,2012-04-04

[8]

浅沟槽隔离结构的制作方法 [P].

宋振伟 ;

徐友峰 ;

陈晋 .

中国专利 :CN103839868A ,2014-06-04

[9]

浅沟槽隔离结构的制作方法 [P].

张明华 ;

严钧华 ;

黄耀东 ;

方精训 ;

彭树根 .

中国专利 :CN103199052A ,2013-07-10

[10]

浅沟槽隔离结构的制作方法 [P].

孙昌 ;

王艳生 ;

廖奇泊 ;

钱俊 ;

朱赛亚 .

中国专利 :CN101866872A ,2010-10-20

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