保护膜形成用原料液、保护膜、带有保护膜的布线基板

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080008519.4

申请日：

2010-02-22

公开(公告)号：

CN102325819A

公开(公告)日：

2012-01-18

发明(设计)人：

金谷纮希须永友康野村麻美子石井淳一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C08G1880

IPC分类号：

C08G1864 C08L7908 G03F7004 G03F7023 H05K328

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

孙秀武;高旭轶

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-11-12	授权	授权
2012-01-18	公开	公开
2012-03-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101197910845 IPC(主分类):C08G 18/80 专利申请号:2010800085194 申请日:20100222

共 50 条

[1]

保护膜制剂和形成保护膜的方法 [P].

天野繁久 .

中国专利 :CN1926262A ,2007-03-07

[2]

保护膜形成用组合物、保护膜形成用片、以及带有保护膜的芯片 [P].

山本大辅 ;

米山裕之 .

中国专利 :CN105706228A ,2016-06-22

[3]

保护膜形成膜及保护膜形成用复合片 [P].

小桥力也 ;

山本大辅 ;

加太章生 .

中国专利 :CN107112219A ,2017-08-29

[4]

保护膜形成用组合物、保护膜形成用片、以及带有固化保护膜的芯片 [P].

山本大辅 ;

吾妻佑一郎 .

中国专利 :CN104838489A ,2015-08-12

[5]

保护膜形成用膜 [P].

山本大辅 ;

高野健 .

中国专利 :CN105009277A ,2015-10-28

[6]

保护膜形成用膜 [P].

高野健 ;

篠田智则 ;

吾妻佑一郎 .

中国专利 :CN104838491B ,2015-08-12

[7]

保护膜形成用膜 [P].

山下茂之 ;

山本大辅 ;

中石康喜 .

中国专利 :CN115132671A ,2022-09-30

[8]

保护膜形成用膜 [P].

佐伯尚哉 ;

山本大辅 ;

高野健 .

中国专利 :CN104837942A ,2015-08-12

[9]

保护膜形成用膜 [P].

山下茂之 ;

山本大辅 ;

中石康喜 .

中国专利 :CN115132634A ,2022-09-30

[10]

保护膜形成用膜 [P].

稻男洋一 ;

佐伯尚哉 .

中国专利 :CN107428963B ,2017-12-01

← 1 2 3 4 5 →