基板处理装置和基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011495296.0

申请日：

2020-12-17

公开(公告)号：

CN113021178A

公开(公告)日：

2021-06-25

发明(设计)人：

宫原理

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B24B3710

IPC分类号：

B24B3730 B24B3734 B24B37005 B24B5702 H01L21304

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-06-25	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

长嶋裕次 ;

松下淳 ;

林航之介 ;

宫崎邦浩 ;

古矢正明 ;

东野秀史 ;

田内丰泰 .

中国专利 :CN104517873A ,2015-04-15

[2]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

川根旬平 ;

盐田明仁 ;

铃木聪 ;

山本悟史 .

中国专利 :CN101154566A ,2008-04-02

[3]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

后藤大辅 ;

东岛治郎 ;

绪方信博 ;

桥本佑介 .

日本专利 :CN118039528A ,2024-05-14

[4]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

若松孝彬 .

中国专利 :CN114946013A ,2022-08-26

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

长嶋裕次 ;

松下淳 ;

斋藤裕树 ;

林航之介 ;

宫崎邦浩 .

中国专利 :CN104517875A ,2015-04-15

[6]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

米川裕基 ;

高桥周平 ;

立花康三 ;

西村英树 .

中国专利 :CN108242390A ,2018-07-03

[7]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

池田義谦 ;

谷口裕树 ;

篠原和義 .

中国专利 :CN107026106B ,2017-08-08

[8]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

小佐井一树 ;

篠原和义 .

日本专利 :CN112786485B ,2025-08-22

[9]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

林航之介 ;

古矢正明 ;

大田垣崇 ;

长嶋裕次 ;

木名瀬淳 ;

安部正泰 .

中国专利 :CN104064495B ,2014-09-24

[10]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

小佐井一树 ;

篠原和义 .

日本专利 :CN121011535A ,2025-11-25

← 1 2 3 4 5 →