气体供给装置、基板处理装置以及气体供给方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710006990.X

申请日：

2007-01-31

公开(公告)号：

CN100514552C

公开(公告)日：

2007-08-08

发明(设计)人：

水泽兼悦

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L2167 H01L21205 H01L213065 C23C16455 C23F400

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-10-03	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-08-08	公开	公开
2009-07-15	授权	授权

共 50 条

[1]

气体供给装置、基板处理装置和气体供给方法 [P].

水泽兼悦 .

中国专利 :CN101017771A ,2007-08-15

[2]

气体供给方法、基板处理方法以及气体供给装置 [P].

池田阳介 ;

山口俊二 ;

石松卓也 ;

峰原亨明 ;

深井健太 ;

吉田拓矢 .

中国专利 :CN114730705A ,2022-07-08

[3]

气体供给装置以及基板处理装置 [P].

成嶋健索 ;

多田国弘 ;

若林哲 ;

斋藤哲也 .

中国专利 :CN101501244B ,2009-08-05

[4]

气体供给装置、基板处理装置及供给气体设定方法 [P].

水泽兼悦 ;

伊藤惠贵 ;

伊藤昌秀 .

中国专利 :CN100390933C ,2006-06-14

[5]

气体供给装置和基板处理装置 [P].

内田阳平 .

中国专利 :CN104205309B ,2014-12-10

[6]

气体供给装置及基板处理装置 [P].

五味久 ;

齐藤哲也 ;

挂川崇 ;

间瀬贵久 ;

小泉真 ;

多田国弘 ;

若林哲 ;

成嶋健索 ;

方成 .

中国专利 :CN1958170A ,2007-05-09

[7]

气体供给装置、基板处理装置和基板处理方法 [P].

益田法生 .

中国专利 :CN101425450B ,2009-05-06

[8]

基板处理装置、气体供给装置和基板处理方法 [P].

益田法生 .

中国专利 :CN100524612C ,2008-03-05

[9]

气体供给方法和气体供给装置 [P].

原正道 ;

五味淳 ;

横山敦 ;

田中利昌 ;

前川伸次 ;

多贺敏 .

中国专利 :CN101646803B ,2010-02-10

[10]

气体供给头、气体供给机构和基板处理装置 [P].

田中诚治 ;

里吉务 .

中国专利 :CN104178748A ,2014-12-03

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