化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201611188878.8

申请日：

2016-12-21

公开(公告)号：

CN106435528A

公开(公告)日：

2017-02-22

发明(设计)人：

左敏

申请人：

申请人地址：

214028 江苏省无锡市新区行创四路7号

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

代理机构：

南京知识律师事务所 32207

代理人：

朱少华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-02-19	授权	授权
2017-02-22	公开	公开
2017-03-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101708621573 IPC(主分类):C23C 16/455 专利申请号:2016111888788 申请日:20161221
2020-04-07	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/455 变更事项:专利权人变更前:江苏微导纳米装备科技有限公司变更后:江苏微导纳米科技股份有限公司变更事项:地址变更前:214028 江苏省无锡市新区行创四路7号变更后:214028 江苏省无锡市新吴区漓江路11号

共 50 条

[1]

化学气相沉积设备 [P].

左敏 .

中国专利 :CN206256165U ,2017-06-16

[2]

化学气相沉积设备 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN102108498B ,2011-06-29

[3]

化学气相沉积设备 [P].

许嘉麟 .

中国专利 :CN102373438A ,2012-03-14

[4]

化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P].

朱伟杰 ;

顾志强 ;

戴建庭 ;

董宁 ;

李强 .

中国专利 :CN209522919U ,2019-10-22

[5]

空间催化式化学气相沉积设备 [P].

乐阳 .

中国专利 :CN108559975A ,2018-09-21

[6]

化学气相沉积设备 [P].

金昶成 ;

刘相德 ;

洪钟波 ;

沈智慧 ;

李元申 .

中国专利 :CN102230167A ,2011-11-02

[7]

化学气相沉积设备 [P].

金宰湖 ;

朴相俊 .

中国专利 :CN1302152C ,2002-10-23

[8]

化学气相沉积设备 [P].

仰卫 .

中国专利 :CN107435141A ,2017-12-05

[9]

化学气相沉积设备 [P].

周向阳 .

中国专利 :CN223373222U ,2025-09-23

[10]

化学气相沉积设备 [P].

金昶成 ;

刘相德 ;

洪钟波 ;

沈智慧 ;

李元申 .

中国专利 :CN101469411B ,2009-07-01

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