具有改进的基板相容性的无氨碱性微电子清洗组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02813876.7

申请日：

2002-07-08

公开(公告)号：

CN1656206A

公开(公告)日：

2005-08-17

发明(设计)人：

奇恩－平·S·许

申请人：

申请人地址：

美国密苏里州

IPC主分类号：

C11D732

IPC分类号：

C11D750 G03F742 H01L21306

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

贾静环;宋莉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-08-13	授权	授权
2005-10-12	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-02-23	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101070200024 IPC(主分类):C11D 7/32 专利号:ZL028138767 变更事项:专利权人变更前:马林克罗特贝克公司变更后:安万托特性材料股份有限公司变更事项:地址变更前:美国新泽西州变更后:美国新泽西州
2022-07-26	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C11D 7/32 申请日:20020708 授权公告日:20080813
2005-08-17	公开	公开
2017-05-24	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101752005359 IPC(主分类):C11D 7/32 专利号:ZL028138767 登记生效日:20170505 变更事项:专利权人变更前权利人:安万托特性材料股份有限公司变更后权利人:安万托特性材料有限责任公司变更事项:地址变更前权利人:美国新泽西州变更后权利人:美国宾夕法尼亚州

共 50 条

[1]

具有改进的基板相容性的无氨碱性微电子清洗组合物 [P].

奇恩-平·S·许 .

中国专利 :CN102399651A ,2012-04-04

[2]

具有改进的基板相容性的无氨碱性微电子清洗组合物 [P].

奇恩－平·S·许 .

中国专利 :CN1526007A ,2004-09-01

[3]

包含无氨氟化物盐的微电子清洗组合物 [P].

奇恩-平·S·许 .

中国专利 :CN100513545C ,2004-09-01

[4]

用于清洗微电子基底的稳定的碱性组合物 [P].

D·C·斯基 .

中国专利 :CN1205325C ,2004-01-21

[5]

具有密封相容性的润滑组合物 [P].

张琰湜 ;

J·J·汉索恩 ;

E·E·德尔布里奇 .

中国专利 :CN107109282A ,2017-08-29

[6]

微电子衬底的清洗组合物 [P].

肖恩·M·凯恩 .

中国专利 :CN1993457B ,2007-07-04

[7]

具有改善的锡相容性的口腔护理组合物 [P].

L·E·多兰 ;

W·M·格兰多夫 ;

S·米哈 ;

E·施奈德曼 ;

C·E·卡特伦奇 ;

M·兹西斯卡 .

中国专利 :CN113164337A ,2021-07-23

[8]

用于微电子基板的稳定的非水清洁组合物 [P].

肖恩·M·凯恩 .

中国专利 :CN101384694A ,2009-03-11

[9]

用于去除金属硬掩模和蚀刻后残余物的具有Cu/W相容性的水性制剂 [P].

陈丽敏 ;

斯蒂芬·里皮 ;

达妮埃拉·怀特 ;

埃马纽尔·I·库珀 .

中国专利 :CN112442374A ,2021-03-05

[10]

用于去除金属硬掩模和蚀刻后残余物的具有Cu/W相容性的水性制剂 [P].

陈丽敏 ;

斯蒂芬·里皮 ;

达妮埃拉·怀特 ;

埃马纽尔·I·库珀 .

中国专利 :CN105431506A ,2016-03-23

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