一种抛光垫及化学机械抛光设备

被引：0

申请号：

CN202011173862.6

申请日：

2020-10-28

公开(公告)号：

CN114425743A

公开(公告)日：

2022-05-03

发明(设计)人：

具滋贤张月杨涛卢一泓刘青

申请人：

申请人地址：

100029 北京市朝阳区北土城西路3号

IPC主分类号：

B24B3722

IPC分类号：

B24B3726 B24B3710 B24B5702

代理机构：

北京知迪知识产权代理有限公司 11628

代理人：

何丽娜;王胜利

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-03	公开	公开
2022-05-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/22 申请日:20201028

共 50 条

[1]

抛光垫及化学机械抛光设备 [P].

蒲以松 ;

惠聪 ;

阴俊沛 .

中国专利 :CN110802508B ,2020-02-18

[2]

抛光垫及化学机械抛光设备 [P].

韩琦 .

中国专利 :CN120244825A ,2025-07-04

[3]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

朱慧珑 ;

钟汇才 ;

梁擎擎 ;

赵超 .

中国专利 :CN102756323A ,2012-10-31

[4]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[5]

一种化学机械抛光垫 [P].

袁黎光 ;

肖亮锋 ;

王杰 ;

楚慧颖 ;

吴泽佳 ;

杨小牛 .

中国专利 :CN216399209U ,2022-04-29

[6]

用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备 [P].

夏俊东 ;

康雷雷 ;

杨亮 .

中国专利 :CN120839661A ,2025-10-28

[7]

化学机械抛光设备和化学机械抛光方法 [P].

唐强 .

中国专利 :CN108115553A ,2018-06-05

[8]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[9]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207B ,2025-08-19

[10]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120862551A ,2025-10-31

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