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半导体器件以及形成该半导体器件的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201310549339.2
申请日
:
2013-11-07
公开(公告)号
:
CN104157649A
公开(公告)日
:
2014-11-19
发明(设计)人
:
刘敏秀
孙润翼
申请人
:
申请人地址
:
韩国京畿道
IPC主分类号
:
H01L27088
IPC分类号
:
H01L29423
H01L218234
H01L2128
H01L21762
代理机构
:
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人
:
顾红霞;何胜勇
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-02-19
授权
授权
2016-05-18
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101661341438 IPC(主分类):H01L 27/088 专利申请号:2013105493392 申请日:20131107
2014-11-19
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件和用于形成该半导体器件的方法
[P].
金正三
论文数:
0
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0
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金正三
.
中国专利
:CN103066055A
,2013-04-24
[2]
半导体器件以及形成半导体器件的方法
[P].
让-皮埃尔·科林格
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让-皮埃尔·科林格
;
江国诚
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江国诚
;
张广兴
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张广兴
;
吴志强
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吴志强
;
王志豪
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王志豪
;
卡洛斯·H.·迪亚兹
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卡洛斯·H.·迪亚兹
.
中国专利
:CN104218083B
,2014-12-17
[3]
半导体器件以及形成半导体器件的方法
[P].
朱慧珑
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朱慧珑
;
林红
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林红
.
中国专利
:CN101097955A
,2008-01-02
[4]
半导体器件和制造该半导体器件的方法
[P].
金辰寿
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金辰寿
;
林昌文
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林昌文
.
中国专利
:CN101414581A
,2009-04-22
[5]
半导体器件以及用于形成半导体器件的方法
[P].
H-G·埃克尔
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H-G·埃克尔
;
M·米勒
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M·米勒
.
中国专利
:CN105895700B
,2016-08-24
[6]
半导体器件以及包括该半导体器件的半导体封装
[P].
金知雄
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金知雄
;
南润锡
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
南润锡
;
申解引
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
申解引
;
吴世范
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
吴世范
;
李龙愚
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李龙愚
;
赵槿汇
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
赵槿汇
;
崔汉别
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
崔汉别
.
韩国专利
:CN120302713A
,2025-07-11
[7]
半导体器件以及形成半导体器件的方法
[P].
尤宏志
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尤宏志
;
陈建茂
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陈建茂
.
中国专利
:CN109786365B
,2019-05-21
[8]
形成半导体器件的方法以及半导体器件
[P].
安东·毛德
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安东·毛德
;
英戈·穆里
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英戈·穆里
;
约翰内斯·鲍姆加特尔
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约翰内斯·鲍姆加特尔
;
伊里斯·莫德
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伊里斯·莫德
;
弗兰克·迪特尔·普菲尔施
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弗兰克·迪特尔·普菲尔施
;
汉斯-约阿希姆·舒尔策
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汉斯-约阿希姆·舒尔策
.
中国专利
:CN107039502B
,2017-08-11
[9]
半导体器件以及形成半导体器件的方法
[P].
吴家扬
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
吴家扬
;
张简旭珂
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张简旭珂
;
王廷君
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
王廷君
;
游咏晞
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
游咏晞
.
中国专利
:CN110783410B
,2024-02-06
[10]
半导体器件以及形成半导体器件的方法
[P].
吴家扬
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吴家扬
;
张简旭珂
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张简旭珂
;
王廷君
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王廷君
;
游咏晞
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0
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0
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游咏晞
.
中国专利
:CN110783410A
,2020-02-11
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