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半导体器件以及形成半导体器件的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201310381537.2
申请日
:
2013-08-28
公开(公告)号
:
CN104218083B
公开(公告)日
:
2014-12-17
发明(设计)人
:
让-皮埃尔·科林格
江国诚
张广兴
吴志强
王志豪
卡洛斯·H.·迪亚兹
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H01L2978
IPC分类号
:
H01L21336
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;孙征
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-01-07
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101594978303 IPC(主分类):H01L 29/78 专利申请号:2013103815372 申请日:20130828
2014-12-17
公开
公开
2017-09-08
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体器件以及形成半导体器件的方法
[P].
朱慧珑
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朱慧珑
;
林红
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林红
.
中国专利
:CN101097955A
,2008-01-02
[2]
半导体器件和用于形成半导体器件的方法
[P].
P·C·布兰特
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P·C·布兰特
;
H-J·舒尔策
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H-J·舒尔策
;
A·R·施特格纳
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A·R·施特格纳
.
中国专利
:CN105895699B
,2016-08-24
[3]
形成半导体器件的方法以及半导体器件
[P].
安东·毛德
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安东·毛德
;
英戈·穆里
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英戈·穆里
;
约翰内斯·鲍姆加特尔
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约翰内斯·鲍姆加特尔
;
伊里斯·莫德
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伊里斯·莫德
;
弗兰克·迪特尔·普菲尔施
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弗兰克·迪特尔·普菲尔施
;
汉斯-约阿希姆·舒尔策
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汉斯-约阿希姆·舒尔策
.
中国专利
:CN107039502B
,2017-08-11
[4]
形成半导体器件的方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
;
张宏勇
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张宏勇
;
鱼地秀贵
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鱼地秀贵
;
安达广树
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安达广树
;
竹村保彦
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竹村保彦
.
中国专利
:CN1078068A
,1993-11-03
[5]
半导体器件
[P].
曹玟锡
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曹玟锡
;
李戴晛
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李戴晛
;
李钟汉
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李钟汉
;
朴洪培
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朴洪培
;
李东洙
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李东洙
.
中国专利
:CN110534570A
,2019-12-03
[6]
半导体器件
[P].
曹玟锡
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
曹玟锡
;
李戴晛
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三星电子株式会社
三星电子株式会社
李戴晛
;
李钟汉
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三星电子株式会社
三星电子株式会社
李钟汉
;
朴洪培
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
朴洪培
;
李东洙
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李东洙
.
韩国专利
:CN110534570B
,2024-10-01
[7]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
杨智铨
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
杨智铨
;
徐国修
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
徐国修
;
张峰铭
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张峰铭
;
林建隆
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林建隆
;
洪连嵘
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
洪连嵘
.
中国专利
:CN113257816B
,2025-01-14
[8]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
杨智铨
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杨智铨
;
徐国修
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徐国修
;
张峰铭
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张峰铭
;
林建隆
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林建隆
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洪连嵘
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洪连嵘
.
中国专利
:CN113257816A
,2021-08-13
[9]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
程仲良
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
程仲良
;
张毅敏
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张毅敏
;
方子韦
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
方子韦
;
赵皇麟
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
赵皇麟
.
中国专利
:CN112582400B
,2025-01-10
[10]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
程仲良
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程仲良
;
张毅敏
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张毅敏
;
方子韦
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方子韦
;
赵皇麟
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赵皇麟
.
中国专利
:CN112582400A
,2021-03-30
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