金属薄膜的薄膜沉积装置以及金属薄膜沉积方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480043900.2

申请日：

2014-08-04

公开(公告)号：

CN105452539A

公开(公告)日：

2016-03-30

发明(设计)人：

佐藤祐规柳本博平冈基记

申请人：

申请人地址：

日本爱知县

IPC主分类号：

C25D508

IPC分类号：

C25D1700 C25D1712 C25D338

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

张蓉珺;林柏楠

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-03-30	公开	公开
2017-10-24	授权	授权
2016-04-27	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101657709953 IPC(主分类):C25D 5/08 专利申请号:2014800439002 申请日:20140804

共 50 条

[1]

金属膜的薄膜沉积方法和薄膜沉积装置 [P].

池田太郎 ;

水泽宁 ;

波多野达夫 ;

横山敦 ;

佐久间隆 .

中国专利 :CN101213642A ,2008-07-02

[2]

金属膜的薄膜沉积方法和薄膜沉积装置 [P].

池田太郎 ;

水泽宁 ;

波多野达夫 ;

横山敦 ;

佐久间隆 .

中国专利 :CN101914752B ,2010-12-15

[3]

金属薄膜沉积方法 [P].

高政宁 ;

宋文聪 .

中国专利 :CN114107939B ,2022-03-01

[4]

金属薄膜沉积方法 [P].

周烽 ;

万先进 ;

熊少游 ;

左明光 ;

李远 ;

宋锐 ;

李远博 .

中国专利 :CN110699663B ,2020-01-17

[5]

薄膜沉积方法以及薄膜沉积装置 [P].

李锋 .

中国专利 :CN112941489A ,2021-06-11

[6]

薄膜沉积装置以及使用该薄膜沉积装置的薄膜沉积方法 [P].

姜声钟 .

中国专利 :CN103866237A ,2014-06-18

[7]

薄膜沉积装置、薄膜沉积方法及薄膜沉积设备 [P].

朱志君 ;

王晖 ;

金京俊 .

中国专利 :CN120193262A ,2025-06-24

[8]

一种金属薄膜沉积方法及金属薄膜 [P].

刘孟杰 ;

陈杰 ;

武彪 ;

郭伟贵 ;

安钊 ;

王光月 ;

张祥 .

中国专利 :CN120924910A ,2025-11-11

[9]

薄膜沉积装置及薄膜沉积方法 [P].

李天天 ;

贺斌 ;

周培垄 ;

王晖 ;

贾社娜 ;

张山 ;

陶晓峰 ;

金京俊 .

中国专利 :CN119710643A ,2025-03-28

[10]

薄膜沉积装置及薄膜沉积方法 [P].

戴明宇 ;

金京俊 .

中国专利 :CN120174351A ,2025-06-20

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