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等离子体分光分析方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201810711726.4
申请日：
2018-07-03
公开(公告)号：
CN109211878B
公开(公告)日：
2019-01-15
发明(设计)人：
本间紘次郎 桐山健太郎 山田泰史
申请人：
申请人地址：
日本京都府
IPC主分类号：
G01N2167
IPC分类号：
G01N2166 H05H124
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
黄纶伟;金玲
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2019-01-15 公开 公开
2022-09-06 授权 授权
2020-04-07 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/67 申请日:20180703
共 50 条
[1]
等离子体分光分析方法 [P]. 
桐山健太郎 .
中国专利 :CN109211877B ,2019-01-15
[2]
等离子体分光分析方法及等离子体分光分析装置 [P]. 
高须刚 .
中国专利 :CN107643279A ,2018-01-30
[3]
等离子体分光分析方法和等离子体分光分析装置 [P]. 
白木裕章 ;
冈井均 .
中国专利 :CN105784675A ,2016-07-20
[4]
等离子体分光分析装置用样本容器 [P]. 
笠井督夫 .
中国专利 :CN304941595S ,2018-12-11
[5]
等离子体分析装置、等离子体分析方法以及衬底处理设备 [P]. 
曺贤哲 ;
林佲俊 ;
金光燮 .
韩国专利 :CN120594508A ,2025-09-05
[6]
感应耦合等离子体分析系统以及感应耦合等离子体分析方法 [P]. 
寺本庆之 ;
胁坂昭弘 .
日本专利 :CN112930477B ,2024-07-19
[7]
感应耦合等离子体分析系统以及感应耦合等离子体分析方法 [P]. 
寺本庆之 ;
胁坂昭弘 .
中国专利 :CN112930477A ,2021-06-08
[8]
等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P]. 
森口尚树 .
中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25
[9]
等离子体分光分析方法和来自非靶材的等离子体发光的抑制剂 [P]. 
笠井督夫 .
中国专利 :CN107917906B ,2018-04-17
[10]
等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 .
中国专利 :CN101908460A ,2010-12-08
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