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在两侧处理制造集成电路的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN99813339.6
申请日
:
1999-11-17
公开(公告)号
:
CN1326590A
公开(公告)日
:
2001-12-12
发明(设计)人
:
托马斯·格拉斯尔
申请人
:
申请人地址
:
德国慕尼黑
IPC主分类号
:
H01L2348
IPC分类号
:
H01L23528
代理机构
:
柳沈知识产权律师事务所
代理人
:
陶凤波
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2004-12-22
授权
授权
2001-12-12
公开
公开
2002-01-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-01-14
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
共 50 条
[1]
在衬底两侧上的集成电路结构及形成方法
[P].
I·D·W·梅尔维尔
论文数:
0
引用数:
0
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0
I·D·W·梅尔维尔
;
马克塔·G·法罗
论文数:
0
引用数:
0
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0
马克塔·G·法罗
.
中国专利
:CN107768370A
,2018-03-06
[2]
集成电路芯片托盘(两侧基板支撑)
[P].
陈建鸿
论文数:
0
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0
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0
机构:
合肥强友科技有限公司
合肥强友科技有限公司
陈建鸿
;
陈慧贞
论文数:
0
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机构:
合肥强友科技有限公司
合肥强友科技有限公司
陈慧贞
;
陈宜萱
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0
引用数:
0
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0
机构:
合肥强友科技有限公司
合肥强友科技有限公司
陈宜萱
;
林圆香
论文数:
0
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机构:
合肥强友科技有限公司
合肥强友科技有限公司
林圆香
;
陈尹臻
论文数:
0
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0
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0
机构:
合肥强友科技有限公司
合肥强友科技有限公司
陈尹臻
.
中国专利
:CN308669794S
,2024-06-04
[3]
集成电路和制造集成电路的方法
[P].
M·H·菲勒梅耶
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0
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0
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0
M·H·菲勒梅耶
;
A·梅瑟
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A·梅瑟
;
T·施勒塞尔
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T·施勒塞尔
;
F·希尔勒
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0
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0
F·希尔勒
;
M·珀尔齐尔
论文数:
0
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0
M·珀尔齐尔
.
中国专利
:CN104518010B
,2015-04-15
[4]
集成电路和制造集成电路的方法
[P].
N·卢贝
论文数:
0
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0
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机构:
意法半导体公司
意法半导体公司
N·卢贝
;
P·莫林
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机构:
意法半导体公司
意法半导体公司
P·莫林
;
Y·米尼奥
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机构:
意法半导体公司
意法半导体公司
Y·米尼奥
.
美国专利
:CN110246752B
,2024-12-13
[5]
集成电路和制造集成电路的方法
[P].
江宏礼
论文数:
0
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
江宏礼
;
张智胜
论文数:
0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张智胜
;
陈自强
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈自强
.
中国专利
:CN113078161B
,2025-01-17
[6]
集成电路和制造集成电路的方法
[P].
B.武特
论文数:
0
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0
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0
B.武特
.
中国专利
:CN104600067A
,2015-05-06
[7]
集成电路及集成电路的制造方法
[P].
董忠
论文数:
0
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0
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董忠
;
陈计良
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0
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0
陈计良
;
陈庆华
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0
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0
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0
陈庆华
.
中国专利
:CN101030553A
,2007-09-05
[8]
集成电路的制造方法及集成电路
[P].
姚国亮
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0
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0
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姚国亮
;
张邵华
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0
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0
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0
张邵华
;
吴建兴
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0
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0
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0
吴建兴
.
中国专利
:CN114171465A
,2022-03-11
[9]
集成电路和制造集成电路的方法
[P].
N·卢贝
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0
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0
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N·卢贝
;
P·莫林
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0
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0
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0
P·莫林
;
Y·米尼奥
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0
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0
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Y·米尼奥
.
中国专利
:CN110246752A
,2019-09-17
[10]
集成电路以及制造集成电路的方法
[P].
A·梅瑟
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0
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0
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A·梅瑟
;
M·聪德尔
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0
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0
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M·聪德尔
;
T·施勒塞尔
论文数:
0
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0
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T·施勒塞尔
.
中国专利
:CN104347625B
,2015-02-11
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