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曝光设备和使用该曝光设备制造半导体装置的方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201811218567.0
申请日：
2018-10-19
公开(公告)号：
CN110187606A
公开(公告)日：
2019-08-30
发明(设计)人：
张赞三
申请人：
申请人地址：
韩国京畿道水原市
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
北京铭硕知识产权代理有限公司 11286
代理人：
刘灿强;韩芳
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-08-30 | 公开 | 公开 |
| 2021-02-09 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20181019 |