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光刻机的套刻误差校正方法及系统、光刻机
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910818849.2
申请日：
2019-08-30
公开(公告)号：
CN112445077B
公开(公告)日：
2021-03-05
发明(设计)人：
不公告发明人
申请人：
申请人地址：
230000 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人：
罗平
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-03-05 | 公开 | 公开 |
| 2021-03-23 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20190830 |
| 2022-12-16 | 授权 | 授权 |